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中央高校基本科研业务费专项资金(20110203110012)

作品数:5 被引量:6H指数:2
相关作者:刘红侠卓青青曹磊商怀超蔡惠民更多>>
相关机构:西安电子科技大学更多>>
发文基金:中央高校基本科研业务费专项资金国家自然科学基金高等学校科技创新工程重大项目更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

领域

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主题

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机构

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资助

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地区

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10 条 记 录,以下是 1-10
刘红侠
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:单粒子 抗辐照 集成电路 栅氧化层 电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
卓青青
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:NMOS器件 SOI 总剂量效应 总剂量 总剂量辐照效应
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
彭里
供职机构:西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
研究主题:SOI PD_SOI NMOS器件 NMOS 总剂量辐照效应
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曹磊
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:隐私 势垒 SOI_MOSFET 高K栅介质 自加热效应
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
樊继斌
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:原子层淀积 硅衬底 金属氧化物半导体场效应晶体管 电介质膜 栅介质材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范小娇
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:原子层淀积 金属氧化物半导体场效应晶体管 电介质膜 HALO 应变SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蔡惠民
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:SOI NMOS器件 总剂量辐照效应 碰撞电离 参考源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张旭杰
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:原子层淀积 ND2O3 ND 经时击穿 温度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
商怀超
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:MOS器件 KINK效应 Γ射线辐照 跨导 总剂量效应
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王志
供职机构:西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
研究主题:SOI NMOS器件 沟道长度 跨导 单粒子效应
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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