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国家高技术研究发展计划(2002AA3Z1110)

作品数:6 被引量:26H指数:3
相关作者:周旗钢王敬冯泉林库黎明李耀东更多>>
相关机构:北京有色金属研究总院清华大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺更多>>

领域

  • 9个电子电信
  • 3个金属学及工艺
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  • 1个电气工程
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 8个硅片
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  • 6个退火
  • 6个内吸杂
  • 6个吸杂
  • 5个单晶
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  • 5个化学机械抛光
  • 5个机械抛光
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  • 4个多晶
  • 4个形貌
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机构

  • 9个北京有色金属...
  • 1个清华大学
  • 1个中国科学院微...
  • 1个有色金属研究...

资助

  • 9个国家高技术研...
  • 6个国家科技重大...
  • 3个国家自然科学...
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  • 2个河北省自然科...
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传媒

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  • 1个中国稀土学报
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地区

  • 9个北京市
9 条 记 录,以下是 1-9
周旗钢
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅单晶 硅片 300MM硅片 单晶硅 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王敬
供职机构:清华大学
研究主题:沟道 半导体结构 场效应晶体管 晶体管 栅结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冯泉林
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 300MM硅片 硅片表面 外延片 氧沉淀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
库黎明
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 抛光 300MM硅片 平整度 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘佐星
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:二氧化硅膜 硅片 精确控制 吸盘 蒸汽
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘斌
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:氧沉淀 微缺陷 多晶硅 CZ硅单晶 氩
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
常青
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅单晶 300MM硅片 硅片 晶体生长 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何自强
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:吹扫 硅化物 尾气处理系统 盲板 残余气体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李耀东
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 化学机械抛光 超大规模集成电路 300MM硅片 表面形貌
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共1页<1>
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