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国家高技术研究发展计划(2006AA03Z355)
作品数:
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胡松
蒋文波
朱效立
严伟
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胡松
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻机 工件台 光刻 掩模 生物芯片
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蒋文波
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:成像系统 位相型 光刻 纳米光刻 无掩模光刻
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朱效立
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 电子束直写 衍射效率 衍射光学元件 衬底
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严伟
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:生物芯片 工件台 光刻 纳米光刻 成像系统
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李亚文
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:超分辨 波带片 衍射光学 旁瓣抑制 X射线光刻
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佟军民
供职机构:许昌职业技术学院
研究主题:工件台 绩效评价 专业群 光刻 高职院校
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赵立新
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻机 掩模 工件台 调制度 镜片
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李展
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:原子束 星敏感器 微细图形 原子光刻 遮光罩
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姚汉民
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻分辨力 投影光刻物镜 原子束 光刻 光子晶体
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周绍林
供职机构:华南理工大学
研究主题:纳米光刻 条纹 光固化 光栅 成像系统
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