南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心
- 作品数：14 被引量：44H指数：4
- 相关作者：陈建军陈秀敏钱永胜更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 相邻像素的投影和杂散光对反射型LCDs对比度的影响被引量：1
- 1998年
- 研究了相邻像素的投影和杂散光对反射型ＬＣＤｓ对比度的影响。结果表明，在ＬＣＤｓ的测量过程中，由于受邻近像素的投影和杂散光的影响，当和被测像素邻近的像素和被测像素同时选通时，可使测量到的对比度和视角特性发生不容忽视的变化；被测像素的尺寸越小，其测量对比度和视角范围受相邻像素的选通状态的影响越大。
- 刘忠安
- 关键词：对比度杂散光液晶显示器件相邻像素
- 全文增补中
- 有源矩阵液晶显示器微功耗低温加固技术被引量：12
- 2003年
- 介绍一种新研制的低温液晶显示器(LCD),在显示器中设计了一套透明的加热、真空保温、抗眩光及电磁屏蔽装置,低温工作时,只需非常小的加热功率,就能使液晶显示器正常工作,同时可以利用该装置中的氧化铟锡(ITO)导电膜层满足显示器视窗对防眩光及电磁兼容(EMC)特性的要求。这种新型低温加固型LCD集多种特殊功能于一体,具有功耗低、亮度高、可靠性好、抗眩光、EMC性能好及结构便于组装等多项显著优点。
- 余雷钱永胜
- 关键词：电磁兼容可靠性
- 厚膜光刻工艺在PDP中的应用被引量：6
- 2001年
- 简要介绍了表面放电型 ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术 。
- 陈秀敏
- 关键词：厚膜光刻工艺等离子体显示器电极
- 光刻工艺参数的优化方法被引量：12
- 2001年
- 通过引入有效时差的概念 ,提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比 ,该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系 ,并可对光刻工艺进行优化设计。
- 刘忠安
- 关键词：光刻工艺优化设计半导体
- 液晶显示器件的最新发展被引量：3
- 2002年
- 简要介绍液晶显示器件其市场现状和未来发展方向 ,主要叙述TFT LCD、LCOS等技术的特点、最新发展及运用前景。
- 朱昌昌
- 关键词：液晶显示器薄膜晶体管
- 厚膜印刷模型
- 2000年
- 提出了厚膜印刷的物理模型 ,并用静态模型建立了丝网印刷参数和图形的压印形变量之间的关系 ,以解决实际印刷工艺中的图形匹配和精确套印问题。
- 刘忠安
- 关键词：静态模型物理模型半导体工艺
- 彩色PDP喷砂工艺的障壁层清除速率和工艺稳定性研究被引量：3
- 2000年
- 提出了彩色PDP喷砂工艺障壁层清除速率的测量公式和减小测量误差的方法 ,讨论了影响清除速率的相关参数及用清除速率定量控制喷砂工艺的条件。指出高耐磨并采用特殊设计的喷头是提高喷砂工艺稳定性和可控性的关键 ,小孔径圆柱状喷头不适用于大生产喷砂工艺。
- 刘忠安
- 关键词：彩色等离子体显示器
- 彩色PDP的研究课题被引量：4
- 2003年
- 简述了彩色PDP的研究课题、相关的技术问题、需解决的关键技术及相关的重点研究课题。
- 刘忠安
- 关键词：等离子体显示器亮度发光效率
- LCD用彩色滤色器的现状和进展被引量：2
- 1996年
- 简要综述了LCD用彩色滤色器研究的现状，报道了彩色滤色器市场和生产的变化情况，介绍了彩色滤色器研究发展的新动向。
- 朱昌昌陈嵘
- 关键词：彩色滤色器液晶显示黑矩阵
- 像素的形状和大小与LCD的视角特性
- 1999年
- 通过对相邻像素的投影和杂散光的研究，很好地解释了 Ｌ Ｃ Ｄ 像素的形状和大小与对比度和视角特性的关系，并指出当 Ｌ Ｃ Ｄ 器件在 Ｃｒ ＞ １ 的有效显示区中，其大像素的对比度比小像素的大，同时也强调了相邻像素的选通态对 Ｌ Ｃ Ｄ 测量结果的影响。
- 刘忠安
- 关键词：液晶显示器杂散光
