湖南大学电子材料研究所
- 作品数：14 被引量：85H指数：5
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- 相关领域：电子电信理学一般工业技术轻工技术与工程更多>>
- 掺杂PVK薄膜的荧光谱及掺杂机制被引量：2
- 2000年
- 根据ＰＶＫ掺杂后荧光谱的改变，提出了ＰＶＫ掺杂的掺杂机制，沿ＰＰＶ链是极化子和双极化子态，而链间是由于双极化子的跃迁。实践结果与模型相符。
- 李宏建彭景翠黄生祥夏辉
- 关键词：荧光谱
- 电致发光器件中杂质态的引入对器件性能的影响
- 2002年
- 掺杂对电致发光器件的电学性能和光学性能有着至关重要的影响。本文在总结分析实验结果的基础上 ,提出了一个发光效率随掺杂浓度而变化的理论模型 。
- 罗小华彭景翠
- 关键词：电导率发光效率电致发光器件电学性能光学性能杂质态
- K3C60固体中的电子态研究
- 一个包括电子相关及电子-声子耦合的完整的Hamiltonian被用于描述KC的电子态。由于电子-声子耦合在决定KC的电子态中的重要作用,本文详细考察了此种耦合的影响。它包括动力电荷耦合和Jahn—Teller耦合。对于K...
- 彭景翠陈小华曾建平颜永红
- 关键词：电子态
- 文献传递
- 多孔硅的表面碳膜钝化被引量：17
- 2000年
- 报道对多孔硅（ＰＳ）进行碳膜（ＣＦ）钝化处理的结果。红外吸收光谱表明，经钝化处理样品的表面由Ｓｉ—Ｃ．Ｓｉ—Ｎ和Ｓｉ—Ｏ键所覆盖；荧光光谱表明，经钝化处理的样品较未处理的样品发光强度提高４～４．５倍．且发光峰位明显蓝移；存放实验显示，经钝化处理的样品发光强度稳定、发光峰位不变。这些结果表明，正丁胺可以在多孔硅表面形成优良的钝化碳膜，是一种十分有效的多孔硅后处理途径。
- 李宏建彭景翠颜永红瞿述向建南
- 关键词：多孔硅碳膜表面钝化荧光光谱
- 填充碳纳米管/石墨的有机导电膜被引量：10
- 2000年
- 介绍一种填充碳纳米管 /石墨的有机导电膜的制备及导电膜的组成与处理条件对其导电性能影响的研究 .实验发现 ,当碳纳米管 /石墨的配比为 1 /7— 1 /4 ,有机聚合物 /导电填料的配比为 2 7.6/72 .4— 32 .4/67.6时 ,该有机导电膜具有最佳的电性能和力学性能 ,且在一定条件下呈现负的温度系数 .采用多层结构模型推导出导电膜的电流密度表达式 ,其理论值与实验值相符合 .
- 李宏建彭景翠陈小华欧谷平
- 关键词：碳纳米管石墨
- 正丁胺对激光染料荧光谱影响的研究被引量：2
- 2000年
- 用亚丁胺作为碳源，采用射频辉光放电制备碳膜，选用激光染料Ｒ６Ｇ和聚乙二醇混合液 作为蒸气源，采用单源热蒸发，在蒸发室与染料同时沉积得到混合膜，用拉曼光谱和红外先谱分析 了碳膜的结构和键合方式，分析表明：碳膜中存在胺基团和氢原子。混合膜的荧光谱测量结果表 明，认为正丁胺对染料荧光谱的影响是因为胺基和氢原子的存在。
- 李宏建彭景翠颜永红向建南
- 关键词：碳膜荧光谱正丁胺染料发光材料
- 多孔硅表面钝化对其发光性能的影响被引量：5
- 2000年
- 报道多孔硅（ＰＳ）的表面钝化对其光致发光（ＰＬ）和电致发光（ＥＬ）的影响。ＰＬ和ＥＬ谱表明，经钝化处理的ＰＳ的ＰＬ和ＥＬ强度明显增强，且发光峰位较大蓝移；存放实验表明，经钝化处理的ＰＳ的ＰＬ和ＥＬ发光强度和发光峰位具有较好的稳定性；Ｉ～Ｖ曲线显示，经钝化处理的ＰＳ发光器件具有较低的启动电压。这些结果表明：用钝化处理的方法是提高 ＰＳ的 ＰＬ和 ＥＬ强度和稳定性及改善其器件性能的有效途径。
- 李宏建瞿述剪之渐彭景翠向建南
- 关键词：多孔硅表面钝化光致发光电致发光
- 硅基材料的发光特性及机理被引量：1
- 2001年
- 硅基发光材料及器件是实现光电子集成的关键,文章介绍了目前取得较大进展的包括多孔硅、掺铒硅、钠米硅等几种主要硅基材料的发光特性及发光机理。
- 李宏建彭景翠瞿述许雪梅黄生祥夏辉
- 关键词：硅基发光材料多孔硅掺铒硅发光特性发光机理
- 记录仪线绕电阻用碳浆料的研制被引量：2
- 1997年
- ]本文介绍了一种可应用于记录仪表中的中阻值导电浆料的研制及其性能。
- 陈小华彭景翠曹绪军
- 关键词：记录仪酚醛树脂
- 多孔硅基发光材料的研究进展被引量：3
- 2000年
- 介绍了多孔硅经表面钝化后,其发光强度和谱线峰位的稳定性,以及多孔硅激光染料镶嵌膜的荧光光谱等方面的最新成果。
- 李宏建欧谷平彭景翠黄生祥向建南
- 关键词：表面钝化
