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周晓辉

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：南京大学物理学院物理学系更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇等离子体增强
  • 1篇电子衍射
  • 1篇淀积
  • 1篇多层膜
  • 1篇散射
  • 1篇气相淀积
  • 1篇化学气相淀积
  • 1篇NC-SI
  • 1篇RAMAN散...

机构

  • 1篇南京大学

作者

  • 1篇周晓辉
  • 1篇乔峰
  • 1篇朱达
  • 1篇马忠元
  • 1篇隋妍萍
  • 1篇邹和成
  • 1篇黄信凡
  • 1篇陈坤基
  • 1篇李伟

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2004
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
激光限制结晶技术制备nc-Si/SiO_2多层膜被引量：3
2004年
在等离子体增强化学气相淀积系统中 ,采用a Si:H层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了a Si:H SiO2 多层膜 .在激光诱导限制结晶原理基础上 ,使用KrF准分子脉冲激光为辐照源 ,对a Si:H SiO2 多层膜进行辐照 ,使纳米级厚度的a Si:H子层晶化 .Raman散射谱和电子衍射谱的结果表明 ,经过激光辐照后纳米Si颗粒在原始的a Si:H子层内形成 ,晶粒尺寸可以根据a Si:H层的厚度精确控制 .还研究了样品的光致发光 (PL)
乔峰黄信凡朱达马忠元邹和成隋妍萍李伟周晓辉陈坤基
关键词：RAMAN散射化学气相淀积等离子体增强多层膜电子衍射
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共1页<1>
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