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肖红: 作品数：45 被引量：48H指数：4; 供职机构：中国工程物理研究院更多>>; 发文基金：中国工程物理研究院基金中国工程物理研究院科学技术发展基金国家自然科学基金更多>>; 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术核科学技术更多>>

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铀铌合金真空热氧化膜的俄歇电子能谱研究被引量：2: 2004年; 用俄歇电子能谱(AES)研究了高真空下,环境温度对铀铌合金真空氧化膜的影响。当温度高于603K时,氧化膜表面结构发生明显改变,表面主要由铀碳化合物、金属态的U和Nb组成。利用Ar+溅射铀铌合金真空热氧化膜进行深度分布分析,发现在热氧化膜的表面氧含量很小,而在热氧化膜的内部有氧增多的现象。; 陆雷白彬邹觉生杨江荣肖红蒋春丽; 关键词：真空热处理俄歇电子能谱

多能碳离子注入纯铁研究被引量：4: 2007年; 利用离子注入表面优化技术,在不同温度下,采用多能量叠加方式将碳离子注入纯铁表面;利用XRD和AES等技术分析了表面改性层的相结构以及元素的分布;利用电化学极化法测试了注入样品的抗腐蚀性能。结果表明,573K时注入的碳离子比373K时注入的碳离子深;纯铁表面改性层有Fe2C、Fe3C新相生成;离子注入碳提高了纯铁表面抗电化学腐蚀的能力。; 王茜蒙大桥刘柯钊肖红张延志王晓红; 关键词：纯铁碳离子注入抗腐蚀性能

铀表面离子注入及辅助沉积碳改性层抗腐蚀性研究: 研究了离子注入、离子束辅助沉积技术在铀表面离子注入、梯度注入、反冲注入、辅助沉积形成碳离子注入或沉积碳膜的工艺。采用俄歇电子谱仪(AES)分析了碳离子注入或沉积铀表面改性层沿深度方向的成分分布;X射线衍射仪(XRD)分析...; 梁宏伟严东旭白彬郎定木肖红王晓红; 关键词：铀碳离子注入; 文献传递

金属铀初始氧化过程的AES和EELS研究: 本文利用俄歇电子能谱(AES)和电子能量损失谱(EELS)研究了金属铀与O<,2>的初始氧化过程,并分析了环境温度以及表面与界面的化学组成等因素对金属铀表面氧化过程的影响.用Ar<'+>溅射可以获得铀的清洁表面,在高真空...; 陆雷白彬邹觉生杨江荣肖红蒋春丽; 关键词：铀俄歇电子能谱高温氧化; 文献传递

强流脉冲电子束处理亚稳β钛合金的组织演化: 采用强流脉冲电子束对含有α+β两相的亚稳β钛合金进行了表面处理.处理使用的电子束加速电压为27 kV,脉冲次数分别为5,10和25次,脉冲持续时间为2μs.采用金相显微镜、扫描电子显微镜、电子背散射衍射和X射线衍射等技术...; 张向东刘天伟李芳芳肖红陆雷; 关键词：亚稳Β钛合金表面处理强流脉冲电子束; 文献传递

UO_2表面铝薄膜生长过程的AES原位研究被引量：1: 2009年; 室温下在俄歇电子能谱(AES)分析仪超高真空室中,通入适量O2,促使基底U表面氧化,生成UO2,然后利用Ar+枪溅射铝箔,使铝沉积在UO2表面形成Al薄膜。沉积过程中实时采集UO2表面的AES谱和低能电子损失谱(EELS),原位分析铝薄膜在UO2表面的生长过程和膜间界面反应。研究表明,室温下,UO2表面的铝薄膜以岛状方式生长;铝与UO2之间存在相互作用,电子从铝原子向UO2中的铀离子转移,由于表面吸附氧的作用,在UO2/Al界面处存在少量的Al2O3;沉积Al原子与UO2之间发生明显的扩散行为,铝向UO2中扩散,形成了一个氧化态铀、金属铀和铝三者共存区。; 周韦刘柯钊杨江荣肖红; 关键词：UO2 AES

因子分析技术在铀与CO,O_2反应俄歇分析中的运用被引量：2: 2005年; 运用因子分析技术和Multipak软件中的TFA功能对铀分别在CO和O2气氛中的俄歇谱进行了处理。分析表明,因子分析方法能有效地解决C(KLL)和U(LMM)俄歇峰中的重峰问题,并能从原始数据中剥离出纯组元;同时还清楚地表明,铀与CO在300℃作用1 h后,在其表面形成了铀的碳化物(或碳氧化物);对铀在低压氧气中的氧化反应,用因子分析技术获得了金属态和氧化态的铀元素随氧气暴露剂量的变化情况,清楚地显示了氧化膜生长的3个阶段。; 杨江荣蒋春丽陆雷肖红汪小琳; 关键词：铀 CO O2

CO钝化对金属铀在大气环境中氧化行为的影响: 研究了金属铀表面在30℃、1MPa的CO气氛中钝化处理3天后在大气中的氧化行为,并用AES原位研究了清洁铀表面与CO的相互作用以及O2对钝化表面的影响.实验结果表明：金属铀表面经CO钝化处理后,其在室温大气环境中的抗腐蚀...; 杨江荣汪小琳陆雷蒋春丽肖红; 关键词：金属铀抗腐蚀; 文献传递

超高真空脉冲激光沉积Au、U单层膜及Au/U/Au复合膜研究: 2012年; 采用超高真空脉冲激光沉积(PLD)方法,在单晶Si基底表面制备了单层Au、单层U薄膜和Au/U/Au复合薄膜,应用SEM、白光干涉轮廓分析和AES分析,研究了靶基距、基片温度和激光能量对薄膜形貌、成分的影响。目前的实验结果显示,PLD所制备的Au、U薄膜表面有μm级以下粒径的液滴产生,在液滴较少位置,薄膜表面粗糙度Ra小于1nm,在包含大液滴位置,Ra不超过15nm。在相同沉积条件下,U薄膜表面液滴数量大于Au薄膜。优化单层薄膜沉积工艺后制备的Au/U/Au复合膜厚度约为195nm,均方根粗糙度Rq在0.3～1.5nm之间。AES分析显示,Au/U/Au复合膜中强化学活性的铀呈金属状态,复合膜中的氧含量低于5%(原子百分数),表层Au薄膜对U薄膜起到了良好的防氧化作用。在沉积工艺中,通过减小激光功率、增大靶基距并适当升高基片温度,可减少液滴的数量及粒径。; 周萍吕学超张永彬赖新春郎定木陆雷肖红赵天明; 关键词：铀脉冲激光沉积