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吴紫阳
作品数:
12
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供职机构:
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
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相关领域:
电子电信
自动化与计算机技术
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合作作者
杨恒
中国科学院上海微系统与信息技术...
王跃林
中国科学院上海微系统与信息技术...
李昕欣
中国科学院上海微系统与信息技术...
戴斌
中国科学院上海微系统与信息技术...
吴燕红
中国科学院上海微系统与信息技术...
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机构
12篇
中国科学院
作者
12篇
吴紫阳
12篇
杨恒
10篇
李昕欣
10篇
王跃林
4篇
吴燕红
4篇
戴斌
2篇
成海涛
2篇
陆松涛
2篇
丁萃
年份
3篇
2013
5篇
2012
4篇
2011
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12
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利用金属化合物的电泳沉积图案进行光刻的方法
本发明提供一种利用金属化合物的电泳沉积图案进行光刻的方法,首先在待进行光刻的半导体材料结构上制备金属薄膜,然后将两片沉积有金属薄膜的半导体材料结构相对固定在预设浓度的金属化合物胶粒溶液中,并将两者分别连接到电源的正负两极...
吴紫阳
杨恒
李昕欣
王跃林
文献传递
一种借助悬架光刻胶实现硅通孔互连的方法
本发明提供一种借助悬架光刻胶制作硅通孔互连的方法。其具体步骤为:首先在减薄或未减薄的硅片上刻蚀出通孔,再利用自组装方法在硅片上表面形成跨越通孔的悬架光刻胶膜并光刻形成悬架光刻胶对通孔一端的封口,溅射形成金属种子层后再去胶...
吴紫阳
杨恒
陆松涛
李昕欣
王跃林
文献传递
一种悬架结构光刻胶的涂胶方法
本发明涉及一种悬架结构光刻胶的涂胶方法,具有能够在沟槽、孔洞、微柱等结构上形成悬架结构,并用于光刻掩膜的特性。其具体步骤为:首先将少量一定浓度的光刻胶滴于极性溶液表面,使之在气-液界面自组装形成一定厚度的光刻胶膜,再将该...
吴紫阳
杨恒
李昕欣
王跃林
可实现敏感生化膜应力释放的柱状电极阵列结构及其制备方法
本发明提出一种可实现敏感生化膜应力释放的柱状电极阵列结构及其制备方法,用于基于梁结构的谐振式痕量质量传感器。该结构包括梁结构、设置于梁结构上的若干微型柱状电极、设置于微型柱状电极上的<111>晶向占优的金膜、...
杨恒
吴燕红
成海涛
戴斌
吴紫阳
一种借助悬架光刻胶实现硅通孔互连的方法
本发明提供一种借助悬架光刻胶制作硅通孔互连的方法。其具体步骤为:首先在减薄或未减薄的硅片上刻蚀出通孔,再利用自组装方法在硅片上表面形成跨越通孔的悬架光刻胶膜并光刻形成悬架光刻胶对通孔一端的封口,溅射形成金属种子层后再去胶...
吴紫阳
杨恒
陆松涛
李昕欣
王跃林
一种用于MEMS结构的悬架光刻胶平坦化工艺
本发明提供一种用于MEMS结构的悬架光刻胶平坦化工艺,首先将自组装方法制作的光刻胶薄膜粘覆转移于存在沟槽或间隙的半导体材料表面形成平整的悬架光刻胶结构,曝光显影以选择性去除不需要部位的光刻胶膜并坚膜,之后在室温条件下在光...
吴紫阳
杨恒
李昕欣
王跃林
可实现敏感生化膜应力释放的柱状电极阵列结构及其制备方法
本发明提出一种可实现敏感生化膜应力释放的柱状电极阵列结构及其制备方法,用于基于梁结构的谐振式痕量质量传感器。该结构包括梁结构、设置于梁结构上的若干微型柱状电极、设置于微型柱状电极上的<111>晶向占优的金膜、...
杨恒
吴燕红
成海涛
戴斌
吴紫阳
文献传递
一种用于MEMS结构的悬架光刻胶平坦化工艺
本发明提供一种用于MEMS结构的悬架光刻胶平坦化工艺,首先将自组装方法制作的光刻胶薄膜粘覆转移于存在沟槽或间隙的半导体材料表面形成平整的悬架光刻胶结构,曝光显影以选择性去除不需要部位的光刻胶膜并坚膜,之后在室温条件下在光...
吴紫阳
杨恒
李昕欣
王跃林
文献传递
利用金属化合物的电泳沉积图案进行光刻的方法
本发明提供一种利用金属化合物的电泳沉积图案进行光刻的方法,首先在待进行光刻的半导体材料结构上制备金属薄膜,然后将两片沉积有金属薄膜的半导体材料结构相对固定在预设浓度的金属化合物胶粒溶液中,并将两者分别连接到电源的正负两极...
吴紫阳
杨恒
李昕欣
王跃林
采用衬底栅极的MIS电容下压阻结构及制作方法
本发明涉及一种采用衬底栅极的MIS电容下压阻结构与实现该压阻结构的自对准加工工艺。用于检测纳米梁位移。该结构用SOI硅片的顶层硅制作纳米梁,用硅衬底作为栅极,腐蚀去除梁与硅衬底间的埋层二氧化硅形成间隙,硅衬底、间隙与纳米...
杨恒
吴燕红
丁萃
吴紫阳
戴斌
李昕欣
王跃林
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