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文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇合金
  • 2篇DZ4合金
  • 1篇定向凝固
  • 1篇正交
  • 1篇正交试验
  • 1篇渗铝
  • 1篇凝固
  • 1篇抗高温氧化
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光催化
  • 1篇光催化薄膜
  • 1篇光催化性
  • 1篇光催化性能
  • 1篇高温氧化
  • 1篇TIO
  • 1篇TIO2薄膜
  • 1篇
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 3篇哈尔滨工程大...

作者

  • 3篇孙杰
  • 2篇武秀芳
  • 2篇杨世伟
  • 1篇杨海军
  • 1篇杨晓
  • 1篇孙艳
  • 1篇张志明
  • 1篇常铁军
  • 1篇夏德贵

传媒

  • 1篇应用科技
  • 1篇机械工程材料
  • 1篇哈尔滨工程大...

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
DZ4定向凝固合金的抗高温氧化行为研究被引量:7
2008年
为了满足航空发动机热端关键零部件的高温使用性能,依据GB/T13303-91和HB5258-2000标准,对DZ4定向凝固合金进行了1 100℃、300 h高温氧化性能试验,对试验数据进行了分析,绘制了氧化动力学曲线.用MX2600FE型扫描电镜及能谱仪对其表面形貌、截面组织形态、相组成等进行了观察与测量.实验结果表明:DZ4定向高温合金在1 100℃、300 h氧化过程中,氧化膜组成主要为NiO、α-Al2O3Ni(Cr,Al)2O4,氧化膜是连续完整和致密的,在氧化的后期,氧化膜表层有轻微的剥落,且未观察到氧化膜内侧发生内氧化.其氧化动力学曲线符合抛物线规律,其氧化速率K<0.1,氧化性能评定属于完全抗氧化.
杨世伟王俊一孙杰杨海军武秀芳
关键词:DZ4合金定向凝固高温氧化
磁控溅射制备TiO_2光催化薄膜工艺条件的优化被引量:5
2007年
采用正交实验设计法优化了玻璃基片表面磁控溅射制备TiO2光催化活性薄膜的工艺条件,以罗丹明B的降解率作为薄膜光催化性的评价标准.结果表明:所考察的因素对薄膜光催化性能的影响次序是靶基距>基片温度>溅射气压>溅射功率>氧氩比和靶基距的交互作用>氧氩比;所得优化条件为:功率155 W,靶基距85 mm,气压1.2 Pa,氧氩比1∶10,基片温度550℃.
常铁军武秀芳孙杰孙艳
关键词:正交试验TIO2薄膜光催化性能
DZ4合金渗铝-硅涂层1100℃氧化时的元素扩散规律被引量:2
2008年
以定向凝固镍基高温合金DZ4为基体,采用料浆法在合金表面制备铝-硅涂层;对该涂层试样进行1100℃抗高温氧化性能试验,并对氧化过程中各元素的分布进行了分析。结果表明:随氧化时间增加,涂层逐渐分为两层,外层为单一β-NiAl相,内层主要由β-NiAl相构成,层内分布着块状和颗粒状的碳化物;高温氧化过程中,硅元素不断向涂层内部扩散,并与基体合金中向外扩散的钼、钨元素结合形成富硅的M6C,并逐渐形成M6C隔层,阻碍镍与铝的互扩散,提高了涂层在高温下的抗氧化能力。
杨世伟夏德贵孙杰张志明杨晓
共1页<1>
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