您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 1篇定向凝固
  • 1篇正交
  • 1篇正交试验
  • 1篇凝固
  • 1篇抗高温氧化
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光催化
  • 1篇光催化薄膜
  • 1篇光催化性
  • 1篇光催化性能
  • 1篇合金
  • 1篇高温氧化
  • 1篇TIO
  • 1篇TIO2薄膜
  • 1篇DZ4合金
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备
  • 1篇催化

机构

  • 2篇哈尔滨工程大...

作者

  • 2篇孙杰
  • 2篇武秀芳
  • 1篇杨海军
  • 1篇孙艳
  • 1篇常铁军
  • 1篇杨世伟

传媒

  • 1篇应用科技
  • 1篇哈尔滨工程大...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
DZ4定向凝固合金的抗高温氧化行为研究被引量:7
2008年
为了满足航空发动机热端关键零部件的高温使用性能,依据GB/T13303-91和HB5258-2000标准,对DZ4定向凝固合金进行了1 100℃、300 h高温氧化性能试验,对试验数据进行了分析,绘制了氧化动力学曲线.用MX2600FE型扫描电镜及能谱仪对其表面形貌、截面组织形态、相组成等进行了观察与测量.实验结果表明:DZ4定向高温合金在1 100℃、300 h氧化过程中,氧化膜组成主要为NiO、α-Al2O3Ni(Cr,Al)2O4,氧化膜是连续完整和致密的,在氧化的后期,氧化膜表层有轻微的剥落,且未观察到氧化膜内侧发生内氧化.其氧化动力学曲线符合抛物线规律,其氧化速率K<0.1,氧化性能评定属于完全抗氧化.
杨世伟王俊一孙杰杨海军武秀芳
关键词:DZ4合金定向凝固高温氧化
磁控溅射制备TiO_2光催化薄膜工艺条件的优化被引量:5
2007年
采用正交实验设计法优化了玻璃基片表面磁控溅射制备TiO2光催化活性薄膜的工艺条件,以罗丹明B的降解率作为薄膜光催化性的评价标准.结果表明:所考察的因素对薄膜光催化性能的影响次序是靶基距>基片温度>溅射气压>溅射功率>氧氩比和靶基距的交互作用>氧氩比;所得优化条件为:功率155 W,靶基距85 mm,气压1.2 Pa,氧氩比1∶10,基片温度550℃.
常铁军武秀芳孙杰孙艳
关键词:正交试验TIO2薄膜光催化性能
共1页<1>
聚类工具0