胡芳
- 作品数：52 被引量：67H指数：5
- 供职机构：广州有色金属研究院更多>>
- 发文基金：国家科技支撑计划广东省国际科技合作项目广东省教育部产学研结合项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术化学工程更多>>
- 摩擦介质对类金刚石薄膜摩擦性能的影响
- 2013年
- 通过对比DLC薄膜和模具钢在无润滑介质、润滑油和水介质下的摩擦系数,研究了干摩擦、润滑油和水对DLC薄膜的摩擦性能影响.在无润滑介质即干摩擦条件下,模具钢的摩擦系数为0.60,DLC薄膜的摩擦系数为0.14;在传统润滑油的条件下,模具钢试样的摩擦系数降低为0.09,经过镀DLC薄膜的模具钢试样的摩擦系数也只降低到0.08,与模具钢相比,DLC薄膜在传统润滑油中未能体现出优越性;在水润滑条件下,模具钢的摩擦系数降低为0.25,而DLC薄膜会快速破裂失效.
- 罗顺岳伟胡芳游玉萍
- 关键词：类金刚石薄膜润滑油模具钢
- 一种摩擦磨损试验机的湿度调节装置
- 一种摩擦磨损试验机的湿度调节装置，包括用于向摩擦磨损试验机提供所需湿度气体的湿度发生装置和用于控制湿度发生装置产生所需湿度气体的湿度控制装置。本实用新型由于采用了湿度发生装置和湿度控制装置组成湿度调节装置的结构，通过湿度...
- 罗顺胡芳岳伟蔡畅游玉萍
- 文献传递
- 一种ZnO透明导电膜层的制备方法
- 一种ZnO透明导电膜层的制备方法。由以下步骤组成：(1)衬底除油、清洗、烘干后放入真空室中，本底真空度＜4.0×10<Sup>-3</Sup>Pa，工作温度为室温，气压0.2～0.6Pa，离子源200～400W和偏压20...
- 石倩周克崧代明江林松盛侯惠君韦春贝胡芳
- 文献传递
- 一种W-S-C复合膜的制备方法
- 一种W-S-C复合膜的制备方法。其特征是采用气体离子源辅助沉积，采用直流磁控溅射沉积金属过渡层，采用中频磁控溅射WS<Sub>2</Sub>靶沉积WS<Sub>2</Sub>和磁控溅射石墨靶形成DLC获得W-S-C复合膜...
- 代明江韦春贝林松盛侯惠君宋玉波胡芳赵利
- TiAlN薄膜在热作模具钢H13上的高温摩擦性能
- 铝合金挤压模具承受着恶劣的高温高载环境,而模具的寿命直接影响到铝型材挤压的经济效益,因此对挤压模具进行强化处理是一种有效而且经济的处理手段。现在国内通用的方法是热处理后进行渗氮处理,而热处理后渗氮,然后进行表面镀膜的工艺...
- 罗顺李福球胡芳岳伟
- 文献传递
- 微喷砂预处理对硬质合金上沉积类金刚石薄膜结合力的影响
- 类金刚石薄膜具有和金刚石相似的优异性能,已广泛应用于航空航天、机械制造、纺织工业、地质钻探等领域。对于形状复杂的刀具和工模具,当前限制类金刚石薄膜工业化应用的主要问题之一是膜层与基体之间的结合强度较低。为了提高膜/基结合...
- 胡芳代明江林松盛
- 文献传递
- NdFeB磁体表面镀铝膜层退镀液配方的研究
- 2015年
- 用NaOH作腐蚀剂,添加辅助盐、表面活性剂、配位剂和缓蚀剂,研制了一种高效稳定的NdFeB表面镀铝膜退镀液。以Nd Fe B试样表面的铝含量和基体失重量作为性能评定指标,通过正交试验确定了优化的退镀液配方为:NaOH 10 g/L,Na_2CO_3 30 g/L,十二烷基苯磺酸钠6 g/L,EDTA-2Na 4g/L,六次甲基四胺4 g/L。优化的退镀液在室温条件下退镀3 min,即可把NdFeB基体上约12μm厚的铝膜退除干净,而且退镀后基体的剩磁、矫顽力和最大磁能积仅分别变化1.27%、1.25%和0.47%,磁性能损伤较小。探讨了NdFeB表面镀铝膜层的退镀机理。
- 陈梓赫代明江胡芳林松盛侯惠君
- 关键词：钕铁硼磁体铝膜退镀液磁性能
- 阴极电弧离子镀ZrN梯度膜和Zr／ZrN多层膜的腐蚀特性被引量：5
- 2009年
- 采用阴极电弧离子镀技术在1Cr13不锈钢表面制备了ZrN梯度层和Zr/ZrN多层膜,并用电化学腐蚀方法和中性盐雾法检测了1Cr13基体、ZrN梯度层和Zr/ZrN多层膜的耐腐蚀性能。结果表明:Zr/ZrN多层膜和ZrN梯度层均能提高1Cr13基体的抗腐蚀能力,而Zr/ZrN多层膜的效果更明显;镀层的内部缺陷(如微孔)和液滴导致薄膜发生孔蚀、隙缝腐蚀和电偶腐蚀;镀层保护的实质是物理屏障作用,细化晶粒、减少膜层中的液滴及针孔等缺陷能显著提高薄膜的抗腐蚀性能。
- 董超苏代明江邱万奇林松盛胡芳
- 关键词：不锈钢极化曲线中性盐雾试验
- 一种半导体照明用绝缘导热膜层材料及其制备方法
- 一种半导体照明用绝缘导热膜层材料及其制备方法，其特征是依次由基材(1)；铝过渡层(2)和氮化铝膜层(3)构成。其制备方法依次包括离子束清洗基材，沉积铝过渡层和氮化铝层。本发明提供的一种半导体照明用绝缘导热薄膜材料具有良好...
- 林松盛代明江刘兰兰胡芳侯惠君韦春贝石倩
- 文献传递
- 溅射条件对ZnO:Al薄膜生长和性能的影响（英文）
- 2015年
- 采用中频磁控溅射法在玻璃基体上制备Al掺杂ZnO薄膜(AZO),分别利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度计及霍尔测试系统研究不同沉积条件如样品台转速和靶-基距离对薄膜光学、电学、微观形貌及晶体结构的影响。XRD结果表明,所有AZO薄膜都呈c轴择优取向,薄膜的结晶度随着样品台转速的增大而降低,且晶粒呈非平衡状态生长。而在不同的靶-基距离时,薄膜具有相似的微观结构和表面形貌。当样品台转速为0、靶-基距离为7 cm时,AZO薄膜的光电性能最好,载流子浓度和霍尔迁移率分别为5.9×1020 cm-3和13.1 cm2/(V·s)。研究结果表明,样品台转速是影响AZO膜的结构和性能的主要因素。
- 石倩代明江林松盛侯惠君韦春贝胡芳
- 关键词：ZNO薄膜中频磁控溅射光电性能
