粟雅娟
- 作品数：66 被引量：24H指数：3
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术理学电气工程更多>>
- 一种参数处理方法、装置、设备、存储介质和程序产品
- 本公开提供了一种参数处理方法，可以应用于高分辨成像系统技术领域。该参数处理方法包括：将与光刻系统对应的K组像差信息输入光刻质量预测模型，输出K个光刻质量预测结果；根据K个光刻质量预测结果，从K组像差信息中确定N组目标像差...
- 韦亚一王嘉硕苏晓菁粟雅娟
- 微纳机电开关研究现状被引量：1
- 2015年
- 微纳机电开关是指特征尺寸在微米或纳米量级内的机械开关,是一个新兴的技术领域,具有体积小、速度快、零泄漏等优势,成为近年来的研究热点。首先介绍了微纳机电开关在射频器件和逻辑电路中的应用,并概述了其分类方式及各自特点。同时系统综述了微纳机电开关的研究现状,包括在尺寸、阈值电压、稳定性、材料等方面取得的突破。最后,论述了微纳机电开关的发展趋势,阐述了其面临的问题和发展障碍,如微纳尺寸下的表面粘附效应、现有工艺技术的实现等。
- 曹合适粟雅娟张斌珍段俊萍
- 关键词：零泄漏射频器件逻辑电路粘附力
- 一种具有自对准效应的自激发光刻方法
- 本发明提供了一种具有自对准效应的自激发光刻方法，涉及半导体工艺技术领域。在第一次光刻处理时使用第一掩模版仅仅是为了定义出第二次光刻处理时的有效光刻区域，因此第一掩模版可以使用尺寸较大的掩模版，极大程度的降低了第一掩模版的...
- 张利斌 芮定海韦亚一粟雅娟
- 一种金属栅温度测量方法
- 本发明公开了一种金属栅温度测量方法，包括如下步骤：构建测量结构；其中，测量结构包括金属栅，与金属栅连接的掺杂鳍，以及与掺杂鳍一端连接的参考金属线；测量参考金属线的电阻值，并根据电阻值获得参考金属线的温度值；测量金属栅和掺...
- 杨双韦亚一粟雅娟
- 文献传递
- 一种标准单元库的优化方法及系统
- 本发明提供一种标准单元库的优化方法，在进行电路级别的光学仿真之前，先进行标准单元的版图布局，进而进行单一标准单元版图的光学仿真，这样，可以对标准单元先进行光学仿真的优化，减少了后续优化和流片的次数，大大提高了设计效率，降...
- 韦亚一赵利俊粟雅娟
- 文献传递
- 一种版图测试图形提取方法、装置、设备及介质
- 本发明公开了一种版图测试图形提取方法、装置、设备及介质，方法包括：在目标版图上搜索出多个目标区域，在每个所述目标区域处均设置采样点；根据采样点，对所述目标版图进行切片，提取出多个切片图形；将每个切片图形均划分为网格状，并...
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- 文献传递
- 一种内建自测试装置及一种使用片上系统进行测试的系统
- 本实用新型公开了一种内建自测试装置及一种使用片上系统进行测试的系统可以独立于IP核之外，适用于多个IP，包括：测试图形发生器、存储器、控制器和测试响应压缩器，存储器存储参考特征向量及随机种子；测试图形发生器根据输入的测试...
- 粟雅娟陈岚
- 文献传递
- 石墨烯掺杂研究进展被引量：5
- 2015年
- 石墨烯被认为是在后摩尔时代可能取代硅成为构筑集成电路的主要材料,近年来成为研究热点。然而要使石墨烯在电路中得到实际应用,其稳定、可控的掺杂至关重要。按照不同掺杂机理梳理了近年来关于掺杂石墨烯的研究,分析了表面转移掺杂和替位掺杂两种主流掺杂方法的掺杂机制,比较了不同掺杂方法的优势与劣势,并提出了潜在的应用方向。由于简单表面转移掺杂和替位掺杂方法都使石墨烯掺杂后裸露在外界环境中,很容易受外界吸附物的影响,造成掺杂效果的退化,因此介绍了氮化硅钝化层和金属接触在石墨烯掺杂方面的独特优势,并且认为掺杂后隔绝石墨烯与外界环境是掺杂稳定存在的必要前提。最后,展望了掺杂石墨烯在未来电子器件中的应用。
- 胡荣炎贾昆鹏陈阳战俊粟雅娟
- 关键词：石墨烯掺杂介质金属
- 一种工艺窗口确定方法和相关装置
- 本申请提供了一种工艺窗口确定方法和相关装置，建立带有空气层的表面等离子体光刻结构对应的表面等离子体光刻模型，通过表面等离子体光刻模型进行仿真，确定光刻后的光刻胶图形，以及光刻胶图形的线宽；调整表面等离子体光刻模型中的曝光...
- 马乐韦亚一董立松粟雅娟
- 一种光刻对准结构及其制造方法
- 本申请提供了一种光刻对准结构及其制造方法，该结构包括：第一部分衬底和第二部分衬底；第一部分衬底的厚度不等于第二部分衬底的厚度；位于第一部分衬底一侧的硬掩膜涂层；硬掩膜涂层在第一部分衬底的正投影真包含于第一部分衬底。从而在...
- 张利斌韦亚一宋桢马乐杨尚粟雅娟
