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徐天伟

作品数:21 被引量:14H指数:1
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
相关领域:文化科学电子电信一般工业技术自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 20篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇文化科学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 6篇光刻
  • 5篇EUV
  • 4篇光学
  • 3篇电子学
  • 3篇污染
  • 3篇污染物
  • 3篇光刻机
  • 2篇弹簧
  • 2篇导热
  • 2篇调整装置
  • 2篇多路
  • 2篇多路复用
  • 2篇信号
  • 2篇永磁
  • 2篇永磁体
  • 2篇真空规
  • 2篇真空规管
  • 2篇直角坐标系
  • 2篇三坐标
  • 2篇三坐标测量

机构

  • 21篇中国科学院微...
  • 1篇清华大学
  • 1篇北京东方计量...

作者

  • 21篇徐天伟
  • 10篇宗明成
  • 10篇马向红
  • 10篇王丹
  • 8篇黄有为
  • 6篇魏志国
  • 4篇孙裕文
  • 2篇武志鹏
  • 1篇陈旭
  • 1篇查良镇
  • 1篇齐京
  • 1篇卢耀文
  • 1篇闫睿
  • 1篇张明志
  • 1篇刘志宏

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2023
  • 3篇2022
  • 2篇2021
  • 4篇2020
  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 4篇2014
  • 2篇2013
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种集光系统防污染保护装置
本发明公开了一种集光系统防污染保护装置,用于一种集光系统中,所述集光系统包括:一激光源,一真空腔,一集光镜,所述集光系统防污染保护装置包括:一供气管路,用于传输压力气体;至少一通气孔,位于所述供气管路上,用于喷射所述压力...
宗明成魏志国徐天伟孙裕文黄有为
文献传递
一种振动隔离装置
本发明提供了一种振动隔离装置,包括:真空腔体(1)、真空腔体(1)内设有主基板(2),真空腔体(1)的一内壁与主基板(2)之间设有至少一个隔振系统(3);隔振系统(3)包括:永磁体(31)、设置有线圈(32)的线圈架(3...
陈进新李璟齐月静齐威徐天伟魏志国
一种用于EUV真空环境中的电子学装置
本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置,位于一真空腔中,所述真空腔用于提供EUV光存在环境,所述电子学装置包括:一电子学系统,所述电子学系统位于所述真空腔内,且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能;...
宗明成孙裕文徐天伟黄有为
文献传递
用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机
一种用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机,用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置包括:密封壳体;电路板,设置于所述密封壳体内部;光电转换器件,为真空兼容型,设置于所述密封壳体外部;连接件,贯穿所述密封壳体,...
谢冬冬徐天伟马向红王丹陈进新李璟丁敏侠
文献传递
一种气体分析装置及方法
本发明提供一种具有原位标定功能的气体分析装置。所述装置包括:取样室,与待测腔室通过第一阀门相连,用于引入待测腔室的样品气体;分析室,与取样室通过第二阀门相连,分析室上设有真空规管,用于监测分析室的真空度;气体分析器,设于...
宗明成徐天伟黄有为马向红魏志国
定容法正压漏孔校准装置被引量:14
2014年
研制出定容法正压漏孔校准装置。采用满量程分别为133 Pa(差压式)、1.33×10^5Pa(绝压式)的两台高精度电容薄膜真空计测量压力变化,通过全金属密封结构减小定容室漏放气对测量结果的影响;采用高精度半导体双级恒温系统获得了296±0.02 K的恒温效果,减小温度对漏孔漏率的影响;通过三个不同的标准体积作为定容室,拓宽装置的校准范围。研究结果证实,研制的校准装置仅采用定容法实现了3×10^-1~4×10^-8Pa·m^3/s的校准范围,合成标准不确定度为1.2%~3.2%。
卢耀文齐京陈旭刘志宏张明志闫睿徐天伟查良镇
关键词:正压漏孔校准检漏定容法
真空兼容的平面光学元件调整装置
本公开提供一种真空兼容的平面光学元件调整装置,包括:平面光学元件,包括相互垂直的光学面、侧面和底面;第一调节支架,与平面光学元件连接,能够在所述光学面所在平面内移动所述平面光学元件;第二调节支架,与所述第一调节支架连接,...
徐天伟王丹陈进新李璟王朋辉杨光华齐威
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真空兼容的平面光学元件调整装置
本公开提供一种真空兼容的平面光学元件调整装置,包括:平面光学元件,包括相互垂直的光学面、侧面和底面;第一调节支架,与平面光学元件连接,能够在所述光学面所在平面内移动所述平面光学元件;第二调节支架,与所述第一调节支架连接,...
徐天伟王丹陈进新李璟王朋辉杨光华齐威
一种光谱椭偏测量装置及方法
本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法,属于光学测量技术领域,本发明包括:光源,用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束;光谱偏振消光器,用于接收测量光束,并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二...
宗明成黄有为徐天伟马向红
文献传递
硅片形貌图构建方法及装置
本说明书实施例提供了一种硅片形貌图构建方法及装置,其中,方法包括:采集硅片表面高度,并沿工作台扫描方向进行平均化处理,绘制硅片高度图;基于所述硅片高度图,进行曝光狭缝区域的平面拟合,绘制硅片形貌图;基于所述硅片形貌图,计...
武志鹏齐月静徐天伟王丹孟璐璐
共3页<123>
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