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文献类型

  • 13篇中文期刊文章

领域

  • 10篇电子电信
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  • 1篇电气工程

主题

  • 4篇半导体
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  • 2篇电池
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  • 2篇太阳能
  • 2篇模态分析
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  • 2篇刻蚀
  • 1篇电池制造
  • 1篇掩模
  • 1篇掩模版
  • 1篇有限元分析
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  • 1篇直线度
  • 1篇声波
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇太阳能电池
  • 1篇特异

机构

  • 13篇中国电子科技...

作者

  • 13篇关宏武
  • 5篇舒福璋
  • 4篇宋伟峰
  • 4篇冯小强
  • 3篇段成龙
  • 2篇宋文超
  • 1篇郎平
  • 1篇赵永进
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  • 1篇成龙
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传媒

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年份

  • 2篇2023
  • 2篇2022
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  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
交换版机械手支架的模态分析
2023年
针对交换版机械手上所用支架,基于有限元理论,运用ANSYS软件进行网格划分和属性定义,进行模态分析。运用LMS Testlab设备进行支架模态试验,结果表明模态仿真结果与试验结果误差在允许范围内,验证了仿真结果和试验结果的准确性、可靠性。为支架的优化设计提供了理论依据,并用于指导实际的生产设计。
刘颖关宏武王浩楠赵东雷林继柱
关键词:模态试验有限元分析机械手
一种异型转子的模态分析
2010年
针对一种设备上所用单支撑转子,在Solidwork中建立三维模型,并导入patran中进行网格划分及属性定义,最后用Nastran计算了前十阶固有模态,并结合生产实验结果进行对比,结果表明,由该模型得到数据与实验结果基本一致,由此计算结果可获得该类转子的临界转速,并用于指导实际的生产设计过程。
关宏武吴秋玲
关键词:模态分析临界转速有限元
太阳能电池制造中化学浓度的预先控制介绍
2014年
太阳能电池的制造需要许多湿清洗步骤。制绒是这些步骤之一,这个阶段是非常重要的,用它可以确保单晶硅和多晶硅电池片的高效率。为了获得稳定和可循环使用的制造工艺,精确可靠的实时测量刻蚀成分主要针对太阳能电池片生产中化学液浓度的预先控制进行介绍。
冯小强祝福生关宏武宋文超
关键词:太阳能
全自动太阳能制绒设备的工艺浅谈
2011年
全自动太阳能制绒设备的工艺对电池片非常重要,通过与厂家合作研究所得的工艺数据为基础,对制绒设备的工艺进行简单总结,并针对工艺对设备进行不断的完善与改进。
冯小强陈平赵永进关宏武舒福璋
关键词:太阳能电池
超声技术在半导体行业中应用探讨
2012年
晶片的洁净程度直接决定了晶片的价值,而晶片最前端工艺就是清洗。现代化超声技术的应用可让晶片更洁净。超声波清洗的功率、频率、尺寸、安装方式的选择都与晶片清洁程度有着密切关系。主要对超声波的原理和频率的选定进行了介绍。
宋伟峰成龙刘永进关宏武
关键词:超声波
SAT与SST在半导体清洗工艺中的应用
2014年
针对芯片制造商对设备低投入高产出的要求,介绍了能将多种工艺集成在一起的工作台SAT(喷酸系统)与SST(喷雾溶剂系统),详细介绍了其工作原理及特点,并与清洗机+甩干机传统清洗及刻蚀方式进行了详细对比,根据厂商实际使用效果,可以看出这两种集成工作台可以有效降低成本,提高生产效率。
关宏武冯小强段成龙宋伟峰舒福璋
关键词:SATSST刻蚀
湿法刻蚀及其均匀性技术探讨被引量:11
2012年
湿法刻蚀是化学清洗方法之一,是一种在半导体制造过程中被广泛应用的工艺,具有对器件损伤小、设备简单等特点。本文介绍了湿法刻蚀工艺的原理、工艺过程以及应用,分析了影响湿法刻蚀均匀性的主要因素,并提出提高刻蚀均匀性的方法。
段成龙舒福璋宋伟峰关宏武
关键词:湿法刻蚀刻蚀工艺半导体制造
基于激光追踪仪的运动轴性能测试与分析
2022年
针对现有运动轴性能测试方法的缺点,提出了基于激光追踪仪的测量方法,其核心思想是将运动轴性能测试转化为数学问题。首先选用高精度直线模组构造垂向运动测试装置,并明确了直线模组的必备选型指标;其次以运动直线度、运动姿态和重复定位精度为例,系统介绍了其测量原理、测量流程和数据处理方法;最后通过对比实验完成了测试方法的可行性分析,结果表明激光追踪仪反射镜测试方案测量精度高、更符合实际。依托激光追踪仪可实现集成过程与测量环节的有机统一,为提升产品性能和精度提供了可靠保障。
赵东雷关宏武王浩楠郎平刘颖
关键词:直线度重复定位精度
支撑机构对工作台振动传递率的影响
2023年
针对精密工作台,研究其支撑机构对振动传递率的影响。通过仿真计算的方法,对比分析了接口布局、接口刚度、支撑板模态频率及阻尼等对支撑板至工作台的振动传递率影响。结果显示,支撑板的模态频率、支撑板与工作台的接口刚度、接口布局均可改变工作台在整个系统中的模态频率,进而影响振动传递率;同时,阻尼对X、Y、Z向的振动传递率均有抑制作用,阻尼值越大,抑制作用越明显。
李龙飞赵宏宇关宏武李树彦
关键词:精密工作台阻尼模态频率振动传递率
半导体化学清洗沾污来源分析被引量:1
2014年
随着半导体工艺的不断发展,其对设备颗粒度的要求越来越高,文章分析了沾污产生的原因及出处,并对各种沾污进行了分析,并指出了解决方向,在很大程度上指导了半导体生产和研发环境的建立及完善。
关宏武段成龙冯小强宋伟峰舒福璋
关键词:沾污化学吸附静电
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