舒福璋
- 作品数：8 被引量：15H指数：2
- 供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
- 相关领域：电子电信轻工技术与工程电气工程更多>>
- 间歇悬浮式厚胶显影工艺研究
- 2013年
- 介绍了一种间歇悬浮式厚胶显影工艺,采用该种显影工艺,对使用SU-8光刻胶进行涂胶,胶层厚度大于30μm的晶片进行显影。显影后的晶片进行电镀工艺,经过对显影后晶片上图形的观察和对电镀凸点的分析,证明该种显影工艺具有很好的效果。
- 陈仲武宋文超舒福璋
- 关键词：显影SU-8凸点电镀
- 全自动太阳能制绒设备的工艺浅谈
- 2011年
- 全自动太阳能制绒设备的工艺对电池片非常重要,通过与厂家合作研究所得的工艺数据为基础,对制绒设备的工艺进行简单总结,并针对工艺对设备进行不断的完善与改进。
- 冯小强陈平赵永进关宏武舒福璋
- 关键词：太阳能电池
- SAT与SST在半导体清洗工艺中的应用
- 2014年
- 针对芯片制造商对设备低投入高产出的要求,介绍了能将多种工艺集成在一起的工作台SAT(喷酸系统)与SST(喷雾溶剂系统),详细介绍了其工作原理及特点,并与清洗机+甩干机传统清洗及刻蚀方式进行了详细对比,根据厂商实际使用效果,可以看出这两种集成工作台可以有效降低成本,提高生产效率。
- 关宏武冯小强段成龙宋伟峰舒福璋
- 关键词：SATSST刻蚀
- 湿法刻蚀及其均匀性技术探讨被引量：11
- 2012年
- 湿法刻蚀是化学清洗方法之一,是一种在半导体制造过程中被广泛应用的工艺,具有对器件损伤小、设备简单等特点。本文介绍了湿法刻蚀工艺的原理、工艺过程以及应用,分析了影响湿法刻蚀均匀性的主要因素,并提出提高刻蚀均匀性的方法。
- 段成龙舒福璋宋伟峰关宏武
- 关键词：湿法刻蚀刻蚀工艺半导体制造
- 旋转式晶圆自动干燥装置的设计与研究被引量：1
- 2013年
- 阐述了制造半导体器件的晶圆在清洗过程中的高洁净度自动烘干环节的重要性,介绍了旋转式晶圆自动干燥装置的结构原理,设计并实现了适合于工业化生产的晶圆自动干燥装置,满足了半导体生产企业对晶圆表面的烘干要求。
- 陈平舒福璋段成龙郑佳晶
- 关键词：半导体生产
- 甩干设备中的颗粒度分析被引量：1
- 2013年
- 甩干设备是半导体清洗工艺后的主要设备,阐述了甩干设备中颗粒产生的各种原因,并进行分析,提出了避免和减少颗粒的解决方案,降低甩干设备带来的颗粒污染。
- 舒福璋关宏武张雅丽
- 关键词：静电振动
- CMP抛光工作台冷却系统研究
- 2022年
- 通过建立抛光工作台的循环冷却水系统,创建了抛光工作台4种不同的循环路径模型;根据温度场的有限元法和流体动力学原理,应用Ansys-Fluent对抛光工作台4种不同循环水路的速度场和温度场进行仿真分析,并对仿真结果分析对比得出了冷却水最优循环路径。
- 刘福强张康吴燕林李伟史霄舒福璋
- 关键词：循环冷却水系统温度场
- 半导体化学清洗沾污来源分析被引量：2
- 2014年
- 随着半导体工艺的不断发展,其对设备颗粒度的要求越来越高,文章分析了沾污产生的原因及出处,并对各种沾污进行了分析,并指出了解决方向,在很大程度上指导了半导体生产和研发环境的建立及完善。
- 关宏武段成龙冯小强宋伟峰舒福璋
- 关键词：沾污化学吸附静电
