张治国
- 作品数：4 被引量：17H指数：3
- 供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术核科学技术更多>>
- 微波ECR等离子体特性及其对DLC膜性能的影响被引量：3
- 2005年
- 为了解并优化在微波ECR等离子体增强化学气相沉积制备类金刚石膜工艺研究中的等离子体特性,利用朗缪尔探针法系统地测量了等离子体密度(Ne)、电子温度(Te)随工作气压(p)变化的关系。DLC膜的结构和性能依赖于沉积条件,提高等离子体密度有利于DLC膜的生长。本文示出了不同的CH4流量时,DLC膜的拉曼光谱和表面均方根粗糙度Rrms变化曲线,阐述了等离子体密度Ne、电子温度Te对DLC膜结构和性能的影响。
- 陈小锰邓新绿张治国刘天伟丁万昱徐军
- 关键词：等离子体特性等离子体增强化学气相沉积等离子体密度DLC膜类金刚石膜工作气压
- MW-ECR PE-UMS制备TiN薄膜及其结构与性能
- ＜正＞在各种等离子体薄膜制备技术中,微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射（PE-UMS）法是近年来发展起来的新型技术,它能在室温以及较低的气压（＜1Pa）下沉积薄膜,因其离子密度高而具有快速生长薄膜...
- 张治国刘天伟徐军董闯邓新禄
- 关键词：ECR等离子体磁控溅射氮化锆薄膜
- Langmuir探针诊断微波ECR非平衡磁控溅射等离子体被引量：11
- 2005年
- 利用朗谬尔探针诊断了ECR非平衡磁控溅射等离子体,给出了微观等离子体参量随宏观工艺参量变化关系。实验测得基片架附近等离子体密度达到1010～1011数量级,电子温度在(5～10)eV之间。随溅射靶功率变化,等离子体密度在130W时取得最大值;同样随微波源功率变化,等离子体密度在功率为850W时也达到最大值。电子温度、等离子体空间电位变化与等离子体密度呈相同趋势。
- 张治国陈小锰刘天伟徐军邓新禄董闯
- 关键词：非平衡磁控溅射LANGMUIR探针诊断等离子体密度电子温度电位变化
- MW-ECR PE-UMS等离子体特性及对Zr-N薄膜结构性能的影响被引量：3
- 2005年
- 采用静电探针技术对微波电子回旋共振(MW ECR)等离子体进行了诊断,利用等离子体增强非平衡磁控溅射(PE UMS)法在常温下制备了Zr N薄膜,通过EPMA,XRD,显微硬度对膜的结构和性能进行评价.实验结果表明,随氮气流量增加,总的等离子体密度从8.07×109cm-3增加到8.31×109cm-3然后逐渐减小为7.52×109cm-3;而N2+密度则从3.12×108cm-3线性递增到3.35×109cm-3;电子温度变化不大.对薄膜而言,随N2+密度增大,样品中氮含量增加,而晶粒逐渐变小,当样品中N Zr原子比达到1.4时,薄膜中出现亚稳态的Zr3N4相以及非晶相,在更高氮流量下,整个薄膜转变为非晶态.与此相应,薄膜硬度由最初的22.5GPa增大到26.78GPa然后逐渐减小到19.82GPa.
- 张治国刘天伟徐军邓新禄董闯
- 关键词：等离子体特性非平衡磁控溅射电子回旋共振等离子体密度EPMA
