张勇
- 作品数：23 被引量：37H指数：4
- 供职机构：中国科学院力学研究所更多>>
- 发文基金：国家重点实验室开放基金中央高校基本科研业务费专项资金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程航空宇航科学技术更多>>
- 离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响被引量：1
- 2015年
- 研究了阳极层离子源预处理工艺对WC硬质合金基底表面粗糙度Ra和表面最大峰谷值Pv的影响,以及对后续镀制Ta缓冲涂层表面特征及膜基附着力的影响。结果表明,硬质合金基片表面粗糙度和表面最大峰谷值的增加量随基片偏压升高呈指数增加;而离子源电压对基片表面粗糙度和表面最大峰谷值影响较弱;采用离子源电压1350 V,基片偏压200 V轰击硬质合金基片15 min后镀制Ta膜,膜层表面晶粒细小均匀,表面致密性显著增加;此外,基片表面经离子源处理后,镀制的Ta缓冲层与基底的膜基结合力有较大改善,这将有利于提高后续贵金属保护涂层的附着力及抗元素扩散能力。
- 魏俊俊朱小研陈良贤刘金龙黑立富李成明张勇
- 关键词：结合力表面粗糙度
- 辉光放电表面处理中等离子体诊断装置用的探针
- 本实用新型涉及用于抗污染的采用辉光放电表面处理中等离子体诊断装置用的探针。该探针包括一不锈钢套管、弹簧和陶瓷管,不锈钢套管套在陶瓷管外,两者密封焊合,并留有小孔;弹簧支撑在不锈钢套管和陶瓷管之间,陶瓷管内穿进探针导线,探...
- 李成明张勇曹尔妍薛明伦
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- 一种基于科里奥利力质量流量计的油气水多相流量计
- 本实用新型提供一种基于科里奥利力质量流量计的油气水多相流量计，包括：分离管；混液分离器，包括扩散锥和混液管；排气装置，包括连接在分离管上端的排气管，和安装在排气管上的气控阀，排气管与定容管连接一端穿过分离管后再穿入扩散锥...
- 李东晖张勇吴应湘何云腾
- 文献传递
- 一种油气水多相流量计用气液分离器
- 本实用新型提供一种油气水多相流量计用气液分离器，包括：分离管；混液分离器，包括设置在分离管内部的扩散锥，和垂直设置在分离管管壁上的混液管；排气装置，包括同时穿过扩散锥和分离管上端的排气管，及安装在排气管上的气控阀；排液装...
- 李东晖张勇吴应湘何云腾
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- 金属低温渗入的装置
- 本实用新型涉及在金属基体表面低温下渗入金属离子的装置,它包括气体通入和气体控制部分、真空系统与真空室相通、电弧蒸发源靶、触发引弧结构均安置在真空室内上部;真空室内下部设有一放置工件的转动机构带动的具有公转和自转的支架,直...
- 李成明张勇曹尔妍薛明伦
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- 金属低温渗入的装置和方法
- 本发明涉及在金属基体表面低温下渗入金属离子的装置，它包括气体通入和气体控制部分、真空系统与真空室相通、电弧蒸发源靶、触发引弧结构均安置在真空室内上部；真空室内下部设有一放置工件的转动机构带动的具有公转和自转的支架，直流电...
- 李成明张勇曹尔妍薛明伦
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- 金属低温渗入的装置和方法
- 本发明涉及在金属基体表面低温下渗入金属离子的装置,它包括气体通入和气体控制部分、真空系统与真空室相通、电弧蒸发源靶、触发引弧结构均安置在真空室内上部;真空室内下部设有一放置工件的转动机构带动的具有公转和自转的支架,直流电...
- 李成明张勇曹尔妍薛明伦
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- 脉冲辅助过滤电弧沉积薄膜装置和方法
- 本发明属涉及表面多弧离子镀膜装置和方法，它包括在真空室内装有通入反应气体用的机构和安装蒸发源靶，真空系统连接在真空室，真空腔接地为阳极；直流电源的阴极与蒸发源靶相连接，阳极与真空腔连接接地；在真空室底部有一支架，支架下有...
- 张勇曹尔妍李成明
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- 一种测试材料抗腐蚀冲蚀性能的装置
- 本实用新型涉及测试材料的抗腐蚀冲蚀性能的装置。该装置包括耐蚀容器、试样高度调节杆下面连接转盘,其特征在于:耐蚀容器安装在超声波发生器上,在耐蚀容器口上方安置一转动支撑架,调节杆与转动支撑架通过固定件相固定,转盘下面有一固...
- 李成明张勇曹尔妍薛明伦
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- 磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响被引量：13
- 2001年
- 介绍了利用过滤电弧离子镀沉积 (TiAl)N薄膜初步的研究结果。在电弧靶材前沿的磁场作用下 ,有效减小了薄膜的宏观颗粒尺寸 ,并极大地降低了颗粒密度。同时 ,过滤电弧的作用 ,使偏压对膜成分的影响减弱 ,薄膜的硬度随膜中铝含量的增加而提高 ,(TiAl)N的抗氧化能力明显提高。
- 李成明张勇曹尔妍薛明伦
- 关键词：抗氧化性能
