李园利
- 作品数：23 被引量：7H指数：2
- 供职机构：西南科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金霍英东教育基金四川省应用基础研究计划项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术机械工程文化科学更多>>
- TGA包覆的Co:CdS纳米晶的制备和稳定性研究
- 利用一步水相合成法,制备了TGA包覆的Co:CdS纳米晶。XRD数据表明当反应时间为1h～20h时所得到的Co:CdS纳米晶均为立方闪锌矿结构,反应时间为45h时为立方和六方共存的晶格结构;FT-IR数据显示TGA较好地...
- 李园利余萍陈思应谢瑞士张锦瑾
- 关键词：CDS纳米晶自净化
- 文献传递
- 一种用于有机氟酸蚀刻光学元件的工装夹具
- 本实用新型涉及工装夹具技术领域，具体的是一种用于有机氟酸蚀刻光学元件的工装夹具，本实用新型包括中空挂杆，所述中空挂杆底部对称开设有两组滑槽，两组滑槽内均滑动连接有滑动板，中空挂杆内设置有两组传动组件，两组传动组件分别控制...
- 匙芳廷彭豪李啸宇李园利吕丽娜杜志远邹浩易小焱邓婷婷陈鹤
- 表面修饰层厚度对Fe:ZnSe纳米晶光学性能的影响
- 2011年
- 利用硫代乙醇酸作为稳定剂在水相中合成了Fe:ZnSe/ZnS核/壳结构半导体纳米晶,研究了表面修饰层(壳层)厚度对产物光学性能的影响。XRD和UV-Vis吸收谱表明,合成的半导体纳米晶为核壳纳米晶,呈立方闪锌矿结构。TEM结果表明,产物分散性较好,尺寸均一,呈球形。PL结果表明,适当厚度的ZnS壳层能有效钝化Fe:ZnSe纳米晶表面的非辐射复合位点,当壳层过厚时,ZnS壳层产生的非辐射复合缺陷会导致PL强度下降。
- 谢瑞士刘凌云李园利肖定全朱建国
- 关键词：纳米晶光学性能
- Fe:ZnSe/ZnS核-壳纳米晶的微乳液法合成及光学性能研究
- 2011年
- 在环己烷/Triton X-100/水/异丙醇W/O型微乳液体系中制备了Fe:ZnSe/ZnS核-壳纳米晶。采用X射线衍射仪(XRD)分析了产物的结构,利用透射电子显微镜(TEM)观察了产物的形貌,采用光致发光(PL)谱、紫外-可见(UV-Vis)吸收谱测试了产物的光学性能。着重研究了水与表面活性剂的摩尔比(R值)对合成产物的光学性能的影响。并对相关现象潜在的机理进行了讨论。
- 谢瑞士刘凌云李园利杨琳肖定全朱建国
- 关键词：微乳液法化学合成光学性能
- 带有曝气组件的原位红外电化学反应装置及应用方法
- 本发明公开了一种带有曝气组件的原位红外电化学反应装置及应用方法，包括相互配合的顶盖和腔体，所述腔体中心处设置有贯通的反应室，还包括与腔体相配合的底座；其中，所述底座上设置有伸入至反应室的曝气组件。本发明提供一种带有曝气组...
- 李园利谢瑞士
- 一种钒酸铋纳米片复合材料的制备方法及其应用
- 本发明涉及光催化剂技术领域，具体的是一种钒酸铋纳米片复合材料的制备方法及其应用，本发明包括以下步骤：S1、将十二烷基苯磺酸钠和五水合硝酸铋溶于硝酸溶液中并搅拌均匀，得到无色透明溶液A；再将偏钒酸铵溶于氢氧化钠溶液中，搅拌...
- 谢瑞士钟晓燕李园利刘海峰
- 一种CdS量子点修饰ZnO纳米花异质结的制备方法及其应用
- 本发明提供一种CdS量子点修饰ZnO纳米花异质结的制备方法及其应用，涉及光催化材料制备技术领域。所述一种CdS量子点修饰ZnO纳米花异质结的制备方法及其应用包括以下步骤：S1、将六水合硝酸锌溶于去离子水中并搅拌均匀，得到...
- 谢瑞士吴宏伟李园利钟晓燕
- SrMoO_4粉体的化学溶液沉积制备及其发光性能研究
- 2011年
- 采用化学溶液沉积技术,用廉价的无机盐作为初始原料、常见的有机试剂为溶剂,制备了晶相单一且结晶良好的钼酸锶粉体;借助XRD、SEM和荧光分光光度计,对钼酸锶粉体的晶相、形貌、粒径分布和室温光致发光性能进行了表征。结果表明,所制备的钼酸锶粉体具有单一的四方相;粉体晶粒发育饱满、晶界清晰,晶粒呈现不规则的球状,尺寸在纳米-微米量级;在室温下钼酸锶粉体呈现白钨矿型钨钼酸盐的本征发光特征,在强度最大的激发波长为(296±4)nm时,强度最大的发射波长在470nm左右。
- 刘洋余萍肖定全田云飞刘旭李园利
- 关键词：粉体发光性能
- Co:CdS半导体纳米晶的合成、晶体结构及光学性质
- 2011年
- 利用水相合成技术,以巯基乙酸(MAA)为稳定剂,合成了Co:CdS半导体纳米晶。XRD结果表明,得到的掺杂纳米晶为闪锌矿结构,平均粒径约为3.9 nm;FT-IR结果表明,MAA成功包覆在Co:CdS纳米晶的表面;UV-vis吸收谱表明,Co离子成功掺入CdS晶格中;PL结果表明,掺杂离子浓度过大会导致CdS发光淬灭;并讨论了相关机理。
- 李园利谢瑞士余萍
- 关键词：CDS掺杂半导体纳米晶光学性质
- 有机氟酸蚀刻提高熔石英的抗激光损伤性能
- 2023年
- 熔石英元件的抗激光损伤性能对高能激光器的稳定运行具有重要意义。为了提升熔石英元件抗激光损伤性能,针对传统氢氟酸蚀刻产生再沉积物的缺点,提出了采用有机氟酸蚀刻提升熔石英元件抗激光损伤性能的方法。有机氟酸蚀刻的优势在于产物具有较好的溶解性,因而产生再沉积物的可能性降低。采用有机氟酸溶液静态蚀刻熔石英元件,并对元件的表面质量、透过率和激光损伤密度进行了表征分析。表面质量和透过率的结果一致显示熔石英元件经有机氟酸蚀刻后,元件表面的再沉积物和污垢较少,表明有机氟酸具有较好的抑制再沉积物生成的效果。激光损伤密度结果显示,有机氟酸蚀刻熔石英的深度为6μm时,元件的平均激光损伤密度为0.26 cm^(−2),接近先进缓释处理2(AMP2)工艺的水平。基于有机氟酸蚀刻提高熔石英元件的抗激光损伤性能为激光负载能力的提升开辟了一条新途径。
- 匙芳廷李啸宇李园利吕丽娜彭豪杜志远
- 关键词：激光损伤熔石英
