刘岗
- 作品数：9 被引量：45H指数：4
- 供职机构：中南大学更多>>
- 发文基金：国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金湖南省科技计划项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程交通运输工程更多>>
- ZrC涂层及其复合涂层的制备和性能研究
- 为了进一步提高炭/炭(C/C)复合材料的抗冲刷耐烧蚀性能,本研究在C/C复合材料表面制备了ZrC或者ZrC/SiC复合涂层作为防护涂层。采用ZrCl4-CH4-H2-Ar反应体系,冷态输送ZrCl4粉末化学气相沉积(CV...
- 刘岗
- 关键词：化学气相沉积热力学计算
- 一种均匀可调送粉装置
- 本发明提供了一种均匀可调送粉装置，包括调速电机、调速电机传动轴、料罐盖、料罐、送料轴、进气管，料罐上有罐盖，料罐与罐盖之间有真空密封垫圈，罐盖中间有真空动密封装置，罐盖边部有装料口，动密封装置的转动轴上端与调速电机传动轴...
- 李国栋熊翔刘岗王雅雷郑湘林
- 文献传递
- 2E12铝合金的疲劳性能与裂纹扩展行为被引量：17
- 2007年
- 研究了2E12合金在不同应力水平下的疲劳性能及疲劳裂纹扩展速率,采用透射电镜和扫描电镜观察了该合金的微观组织和断口形貌特征。结果表明:高纯2E12合金具有良好的耐损伤疲劳性能,当应力比R=0.1时,疲劳强度σ=172 MPa,R=0.5时的疲劳强度σ=280 MPa,比R=0.1时提高了60%,缺口的存在降低了疲劳强度。R=0.1,ΔK=30 MPa.m1/2时,da/dN约为2.7×10-3mm/周,比国产2024合金裂纹扩展速率(6.5×10-3mm/周)低60%左右。2E12合金疲劳断口由裂纹源区、裂纹扩展区及瞬断区三部分组成,裂纹萌生一般位于试样表面应力集中处或不同类型的缺陷部位。
- 刘岗郑子樵杨守杰戴圣龙李世晨
- 关键词：2E12铝合金疲劳裂纹扩展速率
- 一种均匀可调送粉装置
- 本发明提供了一种均匀可调送粉装置，包括调速电机、调速电机传动轴、料罐盖、料罐、送料轴、进气管，料罐上有罐盖，料罐与罐盖之间有真空密封垫圈，罐盖中间有真空动密封装置，罐盖边部有装料口，动密封装置的转动轴上端与调速电机传动轴...
- 李国栋熊翔刘岗王雅雷郑湘林
- 不同Sr添加量对Al-20%Si合金组织和性能的影响被引量：7
- 2009年
- 研究了Sr对Al—20％Si合金组织和力学性能的影响。结果表明，随着Sr量的增加，初晶硅先由角块状或大板片状变为小块状再到多角的大块状，板片上出现大量蜂窝点，块状初晶硅角边发生钝化；共晶硅先由长针叶状变为细短纤维状或枝状再变为粗短枝状或蠕虫状；α枝晶不断柱状化，数量不断增多。另外，随Sr量的增加，合金伸长率逐渐增大，但有起伏，抗拉强度先急剧增加后变化不大，硬度呈抛物线变化。Sr量在0．04％～0．06％间，组织形貌最为理想，综合力学性能最优，强度和硬度增加2倍多，塑性增加近4倍。
- 李小松蔡安辉罗云刘岗周勇曾纪杰
- 关键词：AL-20%SI合金锶变质力学性能显微组织
- 冷态输送ZrCl_4低压化学气相沉积ZrC涂层的制备被引量：2
- 2011年
- 采用ZrCl4-CH4-H2-Ar反应体系,冷态输送ZrCl4粉末化学气相沉积(CVD)制备ZrC涂层。采用热力学计算并结合实验结果分析了冷态输送ZrCl4化学气相沉积ZrC涂层的特点,采用X射线衍射仪和扫描电镜分析了涂层的物相组成、表面形貌和组织结构。结果表明:冷态输送ZrCl4粉末大幅度降低了ZrC的化学气相沉积温度,且容易获得大面积、结构均匀的ZrC涂层。涂层表面由直径在20～80nm之间的颗粒组成,为无规则"田状"组织。涂层结构主要为柱状晶,沿(200)面优先生长。分析了这种新型"田状"ZrC涂层组织的形成机理以及ZrC涂层的生长机制。
- 刘岗李国栋熊翔王雅雷陈招科孙威
- 关键词：CVD表面形貌
- 热处理工艺T6I6对2195合金组织和性能的影响被引量：11
- 2006年
- 研究了热处理工艺T6I6对2195Al-Li合金组织和性能的影响,结果表明:2195Al-Li合金的断裂韧性与析出相的密度、尺寸及分布有关,而以T1相的密度、尺寸和分布影响最大;T6I6热处理工艺抑制T1相在亚晶界析出并促进T1和θ′相在晶内细小弥散析出,从而使2195合金在强度没有降低的条件下相对T6工艺提高合金塑性及断裂韧性。
- 于利军郑子樵李世晨刘岗魏修宇
- 关键词：塑性断裂韧性
- 2E12合金的热处理与微观组织及疲劳性能研究
- 本论文研究了热处理制度和微观组织对2E12合金性能的影响，然后开展了2E12合金疲劳性能的研究。通过拉伸性能测试、金相显微镜、透射电镜(TEM)、以及扫描电镜(SEM)观察，得到的主要结论如下：
(1)2E12...
- 刘岗
- 关键词：疲劳裂纹扩展工艺性能
- 文献传递
- 固态输送ZrCl_4低压化学气相沉积制备ZrC涂层的特征被引量：6
- 2012年
- 采用ZrCl4-CH4-H2-Ar反应体系、固态输送ZrCl4粉末低压化学气相沉积(CVD)制备ZrC涂层。研究温度对低压化学气相沉积ZrC涂层物相组成、晶体择优生长、涂层表面形貌、断面结构、涂层生长速度和沉积均匀性等方面的影响。结果表明:不同温度下沉积的涂层主要由ZrC和C相组成;随着温度的升高,ZrC晶粒(200)晶面择优生长增强,颗粒直径增大,表面致密性增加,沉积速率上升;涂层断面结构以柱状晶为主;随着离进料口距离的增加,涂层的沉积速率逐渐减小;1 500℃时,沉积系统的均匀性比1 450℃时的差。
- 刘岗李国栋熊翔王雅雷陈招科孙威
- 关键词：温度低压化学气相沉积
