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李伟

作品数：39 被引量：16H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术一般工业技术理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 22篇专利
  • 12篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 8篇电子电信
  • 4篇自动化与计算...
  • 1篇化学工程
  • 1篇建筑科学
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 11篇晶圆
  • 7篇硅片
  • 6篇化学机械抛光
  • 6篇机械抛光
  • 5篇抛光
  • 4篇执行器
  • 4篇轴承
  • 4篇末端执行器
  • 4篇交叉污染
  • 4篇光电
  • 3篇数字集群
  • 3篇平坦化
  • 3篇化学机械平坦...
  • 3篇夹持
  • 3篇半导体
  • 3篇半导体设备
  • 3篇TETRA
  • 3篇TETRA数...
  • 2篇弹簧
  • 2篇电传感器

机构

  • 34篇中国电子科技...
  • 1篇广州市科技和...
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 35篇李伟
  • 8篇王伟
  • 5篇陈威
  • 2篇刘时康
  • 2篇班正关
  • 2篇魏鹏
  • 2篇高慧莹
  • 1篇敬铅
  • 1篇衣永青
  • 1篇张云明
  • 1篇赵国骁
  • 1篇鲁胜兵
  • 1篇王东波

传媒

  • 7篇移动通信
  • 4篇光电技术应用
  • 1篇火控雷达技术

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 3篇2018
  • 5篇2017
  • 3篇2016
  • 5篇2014
  • 2篇2013
  • 4篇2012
  • 3篇2011
  • 7篇2010
共 39 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
应用于硅片化学机械抛光设备中的定位转换装置
本发明涉及一种定位装置。装置主要包括基板、驱动装置和定位在基板上的由驱动装置驱动的同步定位装置。采用硅片托来放置机械手干末端执行器运送过来的待抛光硅片，伺服电机驱动齿轮转动，齿轮和转盘啮合，进而带动与转盘相连接的各拉钩件...
高文泉王伟李伟王东辉郭强生
机动车电子标识应用系统设计被引量：2
2014年
以机动车电子标识应用现状的介绍为基础,引出目前系统技术方面存在的主要问题,并有针对性地提出了"17X"的系统建设思路,给出了完整的9系统设计框架,并分别从感知层、网络传输层、平台层、应用层等层面对软硬件设计进行展开,随后指明了本系统的设计特点。全文围绕机动车电子标识应用系统设计展开,其思路和内容可以为机动车电子标识系统的实施和规模应用提供有益的参考和借鉴。
敬铅曾云逸盖瀚夫李伟
关键词：EVI
化学机械抛光设备硅片定位装片装置
本发明提供了一种化学机械抛光设备硅片定位装片装置，涉及化学机械抛光设备技术领域。具有装载底盘，装载底盘上固定有装载引导环，装载引导环内设有第1斜倒角和第2斜倒角；装载底盘上设有水压喷嘴，水压喷嘴与可装在第2斜倒角上的硅片...
高文泉廖垂鑫陈威李伟王伟柳滨
文献传递
300mm硅片单面抛光机(CMP)的开发
柳滨郭强生陈威王东辉李伟陈波
“300mm硅片单面抛光机（CMP）的开发”是国家科技部02国家科技重大专项中“硅材料设备应用工程”（2009ZX02011）项目的课题之一。面向90-65nm极大规模集成电路用硅抛光片制备技术需求，自主研发300mm硅...
关键词：
广州亚运通信保障经验和赛后利用展望
2011年
文章从规划管理、技术手段、组网架构、虚拟专网技术、应急流程与预案多角度出发,对广州800兆TETRA数字集群共网如何成功进行广州亚运会、亚残会通信保障的成功经验加以总结;并在此基础上,进一步对800兆TETRA数字集群共网在后亚运时代的后继发挥进行了展望。
李伟班正关
关键词：TETRA
片盒晶圆实时检测装置
本实用新型公开了一种片盒晶圆实时检测装置，用于半导体设备行业中，其包括固定板、设于固定板上且位于片盒一侧的带有光源发射器的左安装柱以及和左安装柱的位置相对应设置在片盒的另一侧的带有光源接收器的右安装柱，每一组对应的光源发...
王东辉王伟郭强生柳滨李伟
文献传递
化学机械平坦化终点检测方法及装置
本发明提出了一种化学机械平坦化终点检测方法及装置，方法包括以下步骤：根据设定的平坦化工艺参数将平坦化材料在第一抛光台上进行平坦化，将采集到的反射光信号进行数据图形化处理得到第一表面图形及第二表面图形；在所述第一表面图形符...
王东辉郭强生周国安李伟高文泉
抛光头进给加压抛光方法、控制器及进给加压机构
本发明涉及一种抛光头进给加压抛光方法、控制器及进给加压机构，方法包括加压单元控制气缸加压使气缸杆伸长到最大长度；进给单元控制电机达到第一预设转速；当位置监测单元监测到抛光头与抛光盘之间达到预设距离时，进给单元控制电机输出...
熊朋杨师李伟魏鹏
文献传递
化学机械抛光晶圆承载器
一种化学机械抛光晶圆承载器，采用上球面轴承、下球面轴承、上十字联轴节、下十字联轴节、固定在集流盘上的支撑柱以及与支撑柱滑动连接的安装环和上盖上的导向孔构成万向节结构，带动晶圆自动产生万向偏摆；夹持环上的外撑螺钉、保持环上...
李伟柳滨高文泉王东辉
文献传递
硅片单面化学机械抛光方法和装置
本发明提供了一种硅片单面化学机械抛光方法和装置，属于硅片化学机械抛光方法和设备技术领域。其方法是根据硅片单面抛光的表面质量要求，在进行了初抛光和/或精抛光之后，再与进行硅片的漂洗抛光。其装置主要包括初抛光台和/或精抛光台...
柳滨李伟郭强生廖垂鑫
文献传递
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