李广福
- 作品数：9 被引量：9H指数：2
- 供职机构：河北工业大学更多>>
- 发文基金：天津市自然科学基金天津市重大科技攻关项目更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 集成电路制备中化学机械全局平面化(CMP)后的表面清洗技术被引量：1
- 2005年
- 论述了集成电路制备中CMP过程带来污染的重大危害,介绍了目前CMP后清洗所面临的两大新挑战,同时对CMP后清洗的现状做出了分析,提出了存在的问题,并且对未来清洗的方向进行了展望。
- 李薇薇刘玉岭王胜利李广福
- 关键词：集成电路CMP污染
- 一种新型的LCD清洗剂被引量：4
- 2005年
- 详细分析了目前液晶显示屏狭缝中的污染物来源,通过大量实验利用有机碱、活性剂和JFC找到的一种新型LCD清洗液,并且达到了较好的清洗效果,形成了一整套新型的清洗技术。
- 李薇薇刘玉岭李广福
- 关键词：LCD有机碱活性剂
- 液晶显示屏水基清洗剂
- 本发明公开了一种液晶显示屏水基清洗剂，旨在提供一种使用胺碱与非离子表面活性剂的混合溶液来消除残留物，提高产品表面光洁度，对狭缝的润湿性能好，同时安全性好，价格低的液晶显示屏水基清洗剂。按重量百分比由下述组分组成：胺碱20...
- 刘玉岭李广福李薇薇
- 文献传递
- 微电子专用螯合剂的使用方法
- 本发明一种微电子专用螯合剂的使用方法，旨在提供一种能够有效去除金属离子，满足对基材表面金属离子的要求的微电子专用螯合剂的使用方法。在常用抛光液中按体积百分比加入0.1-3%的微电子专用螯合剂二乙二胺四乙酸四羟基乙基乙二胺...
- 刘玉岭李广福张西慧
- 文献传递
- 硅磨片清洗剂
- 本发明公开了一种硅磨片清洗剂，旨在提供一种使用胺碱与非离子表面活性剂的混合溶液来替代现在广泛采用的RCA清洗，来实现现在大规模集成电路对硅磨片的表面洁净度的要求。按体积百分比由下述组分组成：胺碱20～70％，JFC 5～...
- 刘玉岭李广福李薇薇
- 文献传递
- 固体表面高精密CMP技术研究
- 经过实验和理论研究揭示了CMP动力学过程、速率控制过程,建立了CMP速率数学模型.发现在碱性介质下多羟多胺和铜及银离子能形成极稳定、溶解于水的络合物且与多种金属氧化物形成可溶的化合物.在CMP过程中实现了高速率、无塌边、...
- 刘玉岭牛新环李广福
- 关键词：纳米材料碱性介质
- 文献传递
- 微电子专用螯合剂的使用方法
- 本发明一种微电子专用螯合剂的使用方法，旨在提供一种能够有效去除金属离子，满足对基材表面金属离子的要求的微电子专用螯合剂的使用方法。在常用抛光液中按体积百分比加入0.1－3％的微电子专用螯合剂二乙二胺四乙酸四羟基乙基乙二胺...
- 刘玉岭李广福张西慧
- 文献传递
- LCD残留液晶的清洗被引量：5
- 2006年
- 指出了去除残留液晶在LCD制造过程中的重要性,并为了适应目前ODS的替代趋势介绍了LCD行业中目前广泛采用的替代ODS的清洗剂和清洗工艺。其中详细介绍了各种替代清洗剂的组成及其优缺点,并对清洗机理进行了一定的分析最终给出了一般的工艺流程。
- 李广福刘玉岭李薇薇
- 关键词：LCDODS清洗剂清洗工艺
- 铝、钽、钨、铜及氮化钛等金属纳米磨料CMP技术及其应用的研究
- 刘玉岭李薇薇王娟周建伟金善明杨福山高鹏孙守梅袁育杰李广福张德臣张志花李湘都
- 采用高PH值（一般PH值大于10.5）抛光液，实现了抛光高速率、反应产物可溶、易于清洗；抛光速率可控，防止设备腐蚀，减少了金属离子的污染；按照速率的要求来确定温度；利用络合剂解决在碱性介质下氧化物和氢氧化物的沉淀问题；利...
- 关键词：
- 关键词：CMP技术
