董正琼
- 作品数：7 被引量：2H指数：1
- 供职机构：华中科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国博士后科学基金国家重大科学仪器设备开发专项更多>>
- 相关领域：机械工程理学医药卫生电子电信更多>>
- 基于灵敏度与线性相关分析的光学散射测量条件优化配置
- 纳米结构的光学散射测量主要由两个关键技术支撑,即正向光学特性建模和几何参数逆向提取[1].其中,正向求解是指依据已知的光学入射条件和几何参数尺寸,采用电磁场建模理论获得仿真光谱数据的过程;反向几何参数求解则是指运用库匹配...
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- 基于灵敏度分析的一维纳米结构光学散射测量条件优化配置被引量：2
- 2016年
- 在光学散射测量中,除了实际测量光谱的质量外,模型的输出光谱对待测纳米结构参数的灵敏度也对最终测量结果的精度具有重大影响.由于不同的测量配置(入射波长、入射角和方位角的组合)下,纳米结构参数的灵敏度会不同,因此提出了一种基于灵敏度分析的测量条件优化配置方法来改善待测参数的灵敏度,以实现更高精度的纳米结构测量.实验表明,在理论预估的最优测量配置下,一维纳米结构所有待测参数的测量精确最优,验证了其有效性.
- 董正琼刘世元陈修国石雅婷张传维江浩
- 关键词：灵敏度
- 光学散射测量中的仪器测量条件配置优化方法研究
- 相比于扫描电子显微镜和原子力显微镜等传统测量手段，光学散射测量技术在满足纳米级尺度测量要求的同时具有快速、低成本、非破坏性和易于集成等优点，因而在纳米制造等先进工艺监测及优化领域中得到了广泛的应用。目前，如何进一步实现更...
- 董正琼
- 关键词：MUELLER矩阵椭偏仪
- 文献传递
- 一种基于多焦复用透镜的定量相位成像方法及系统
- 本发明公开了一种基于多焦复用透镜的定量相位成像方法及系统，属于光学成像、显微技术领域。方法包括：步骤1、产生入射激光束，并准直后形成准直激光束后照射在待测样品上；步骤2、对照明后的待测样品进行光学显微放大，在成像面调整成...
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- 一种基于穆勒矩阵的套刻误差提取方法
- 本发明属于半导体制造中的套刻误差测量领域，具体涉及一种基于穆勒矩阵的纳米结构套刻误差提取方法。本发明采用穆勒矩阵矩阵对角线上的M13和M31元素，或者M23和M32元素的线性组合分别直接拟合得到一条直线，利用该拟合直线可...
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- 文献传递
- 一种基于穆勒矩阵的套刻误差提取方法
- 本发明属于半导体制造中的套刻误差测量领域，具体涉及一种基于穆勒矩阵的纳米结构套刻误差提取方法。本发明采用穆勒矩阵矩阵对角线上的M13和M31元素，或者M23和M32元素的线性组合分别直接拟合得到一条直线，利用该拟合直线可...
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- 文献传递
- 一种基于多焦复用透镜的定量相位成像方法及系统
- 本发明公开了一种基于多焦复用透镜的定量相位成像方法及系统，属于光学成像、显微技术领域。方法包括：步骤1、产生入射激光束，并准直后形成准直激光束后照射在待测样品上；步骤2、对照明后的待测样品进行光学显微放大，在成像面调整成...
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