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卢志红

作品数:4 被引量:15H指数:3
供职机构:福州大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:福建省高校测试基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 1篇电沉积
  • 1篇电沉积层
  • 1篇性能研究
  • 1篇数对
  • 1篇铸造合金
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束溅射
  • 1篇金刚石
  • 1篇金属
  • 1篇金属基
  • 1篇金属基复合
  • 1篇金属基复合材...
  • 1篇晶态
  • 1篇基片
  • 1篇工艺参
  • 1篇合金
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶态
  • 1篇复合材料

机构

  • 4篇福州大学
  • 1篇中国人民解放...
  • 1篇包头稀土研究...

作者

  • 4篇周白杨
  • 4篇卢志红
  • 3篇邓光华
  • 2篇林梅
  • 1篇李碚
  • 1篇姜华
  • 1篇彭俊华
  • 1篇高诚辉

传媒

  • 1篇稀土
  • 1篇材料保护
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2004
  • 2篇2003
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
溅射方位对IBS沉积TbDy-Fe薄膜性质的影响被引量:5
2004年
本文采用铸造合金靶材和离子束溅射 (IBS)技术制备TbDy Fe超磁致伸缩薄膜 (GMFs) ,研究了不同溅射方位 (α角 )对冷基片成膜过程和薄膜性质的影响。结果表明 ,在给定的溅射角范围内 ,薄膜表面平整光滑 ,组织致密 ,膜厚均匀且与基片结合良好 ,膜的结构均为非晶态 ;成膜生长速率、膜层成份以及λ值随α角的改变均呈现规律性的变化 ,当α角为α6左右时 ,沉积速率最大 ;在α角为α5左右范围内 ,膜层的成份最接近于靶材成份 ;α角在α4附近时用Tam法试验测定在Hmax=0 5 7T下的磁伸值λ∥ 可达 970× 10 -6,在中低场强H =0 2 5T下 ,λ∥ 值达到 710× 10 -6。
周白杨卢志红林梅姜华邓光华
关键词:离子束溅射铸造合金靶材非晶态基片
Ni-Fe-P/金刚石复合电沉积层组织结构的研究被引量:5
2003年
对Ni-Fe-P/Diamond复合电沉积层的组织结构进行了研究。沉积层X-射线衍射及环境扫描电镜与沉积层组织结构点、面成分能谱分析结果表明,在试验所进行的镀覆工艺控制范围内,可获得表面平整、光滑,金刚石微粒均匀分布且具有良好结合强度的非晶态复合电沉积层;共沉积在Ni-Fe-P合金中的金刚石微粒基本不影响基质合金组织结构的无序度;复合电沉积层中金刚石微粒按“阳离子吸附-包覆”机理共沉积入复合层申。
周白杨卢志红高诚辉
关键词:沉积层复合电沉积NI-FE-P金刚石金属基复合材料
RE—GMM功能薄膜的制备及性能研究
稀土超磁致伸缩材料(RE—GMM)是一种新发展的高技术功能材料;而RE—GMM非晶薄膜则是国外90年代后才开始进行研制的一种新型功能薄膜材料,它与其体材料相比,具有许多优点,特别是在器件微型化和非晶材料独特的磁性方面;其...
周白杨邓光华卢志红林梅彭俊华
文献传递
工艺参数对Sm-Fe超磁致伸缩薄膜沉积速率的影响被引量:5
2004年
采用磁控溅射在聚酰亚胺薄膜以及黄铜等基片上成功制备出Sm-Fe超磁致伸缩功能薄膜,并且较深入地研究了溅射功率、工作气压、靶基距以及沉积不同阶段等主要工艺参数对沉积速率的影响规律。结果表明:随溅射功率的减小和靶基距的增大,会不同程度地引起沉积速率的下降;随着工作气压的增大,最初沉积速率不断增大,当溅射气压增大到一定程度(1.5Pa)时,沉积速率达到最大值,之后随溅射气压的增大,又不断减小;对于黄铜和聚酰亚胺基片,溅射初始阶段的沉积速率低于后面阶段的沉积速率。
卢志红周白杨邓光华李碚
关键词:磁控溅射超磁致伸缩沉积速率
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