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董连和: 作品数：62 被引量：162H指数：9; 供职机构：长春理工大学光电工程学院更多>>; 发文基金：国家自然科学基金吉林省自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>; 相关领域：电子电信机械工程理学一般工业技术更多>>

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单模光纤端面激光减反射膜的研制: 针对军用光学系统中对光源的特殊应用，在10μ m 的单模光纤端面上镀制抗激光损伤的减反射膜。通过选择合适的光学材料，利用TFC 软件设计膜系，调整最佳的工艺参数，采用热蒸发式真空镀膜机及RF 离子源辅助沉积的方法，成功的...; 李美萱董连和; 关键词：真空镀膜单模光纤减反射膜激光损伤

红外增透膜与远红外低通滤波器被引量：3: 2003年; 本文对红外增透膜与电磁屏蔽网膜相结合技术做了实验研究 ,设计并制备了红外增透膜和电磁屏蔽网膜 ,计算了电磁屏蔽网膜的线宽、周期 ,给出了具体实验结果 ,做了相应的分析。; 车英董连和王也; 关键词：红外增透膜红外成像系统

球面基底上制作微柱面透镜工艺研究: 2014年; 针对目前在球面基底上制作微透镜阵列工艺复杂,制作成本昂贵等问题,介绍了一种激光直写光刻和光刻胶热熔成型相结合的新的加工技术。为此改造了球面刻划机,搭建了405nm激光曝光光源系统,同时建立三维坐标体系,实现微透镜阵列在球面空间位置的定位。在理论分析和合理设计的基础上,使用BP212正性光刻胶在口径50mm,曲率半径60mm的球面基底上制作出线宽为50μm,矢高为2μm,切面曲率半径约为157μm的微柱面透镜阵列,并给出了测试结果。结果表明:在球面基底曲率半径一定时,通过阶梯升温光刻胶和对其快速冷却等微细加工方法,克服了光刻胶熔融状态时的流动性问题,证明此种加工方法对球面微透镜阵列的制作具有很好的可行性。; 尹航董连和宋璇陈哲; 关键词：微透镜阵列激光直写光刻

193nm准分子激光器激光整形微透镜阵列压缩模塑成型工艺参数研究: 2016年; 为了实现193 nm准分子激光器激光整形及均匀化,制作一种微透镜阵列光学元件。本文采用L_93~3多因子正交方法进行实验,获得3因子3水平下压缩模塑成型的微透镜阵列。通过Taylor Hobson轮廓仪测量微透镜阵列形状误差,并采用极差分析方法分析模具温度、保压压力、冷却时间3种工艺参数对形状误差的影响程度,确定微透镜阵列光学元件的最优工艺参数组合。结果表明：当模具温度为230℃,保压压力为120 MPa,冷却时间为30 s时,微透镜的形状误差最好,值为0.5276μm,满足193 nm准分子激光器激光整形及均匀化对微透镜阵列形状误差小、精度高等要求。; 吴博琦董连和孙艳军冷雁冰王丽; 关键词：微透镜阵列

硅基自由曲面光学微透镜阵列制作的光学性能研究被引量：9: 2012年; 针对自由曲面无固定解析式的特点,根据感光材料的光化学作用原理,以及曝光能量与曝光深度的制约关系,提出采用变剂量曝光的光刻方法制作自由曲面光学微器件。从光传播理论出发,分析了曝光过程光刻胶中光能量分布规律和曝光深度随曝光能量的变化关系,建立了光分布规律的数学模型,并应用计算机软件对模型进行仿真。结果表明:光能量在胶膜内呈规律性分布,在能量一定的情况下曝光深度随时间规律性增加,并逐渐达到饱和。同时,应用长春理工大学BOL500型复合坐标激光直写系统,选用美国Futurrex62A光刻胶、波长412 nm He-Ge气体激光器、5‰NaOH显影液进行曝光及显影实验,所得实验数据与仿真结果吻合。; 孙艳军冷雁冰陈哲董连和; 关键词：自由曲面光刻蚀刻

频率选择表面的分析方法和仿真技术研究被引量：9: 2010年; 采用有限元法对频率选择表面进行分析,研究Ansoft HFSS软件用于频率选择表面仿真的可行性。以六边形单元频率选择表面为实例探索Ansoft HFSS软件仿真频率选择表面的方法及过程。采用光刻技术制作出六边形单元频率选择表面样片。通过对仿真曲线和样片实测曲线的对比,证明Ansoft HFSS软件用于频率选择表面仿真的方法是正确的。同时,通过圆环和十字单元结构的实例,进一步验证了其仿真的可靠性。软件仿真中同时考虑了频率选择表面的频域特性和时域特性,而用传统的计算方法设计的频率选择表面只能考虑其中的一种特性,因此该仿真设计方法更准确。; 孙艳军董连和陈宇冷雁冰; 关键词：频率选择表面 ANSOFT HFSS 有限元法仿真光刻

方形孔径微透镜阵列与红外焦平面集成技术研究: 2013年; 针对红外焦平面阵列自身存在的占空比小、光能利用率低的问题,提出利用光胶技术将方形孔径球面微透镜阵列与红外焦平面集成。从理论角度分析了微透镜阵列集成的聚能效应。设计"栅线"和"十字"双对准标记,采用衍射光栅同轴对准方法实现器件的对准。经过对集成前后红外焦平面性能进行对比,发现响应率提高了近40%,探测率提高了约20%,红外焦平面的噪声从758.89μV下降到668.23μV。最终得到结论:光胶法用于两种器件的集成具有耐温性好、变形小、强度高等优点,集成后红外焦平面的探测性能显著提高,有利于探测器微小型化发展。; 孙艳军陈哲冷雁冰董连和; 关键词：红外焦平面微透镜阵列

自由曲面光学微镜阵列: 一种自由曲面光学微镜阵列，属于光学技术领域，采用基片和微透镜构成，微透镜为矩形，其表面为自由曲面，微透镜均匀排列在基片上。本实用新型减小单元间距，其理论占空比可达95%以上，光敏面的光能利用率得到极大提高。; 孙艳军董连和冷雁冰陈哲; 文献传递

光刻技术曝光光源及相关问题试验分析: 1996年; In this paper, we analpe and discuss the characteristic Ptopnies and using petormanoo ofseverai types of ultraviolet source, transdslon materials and optical mask which are used in the pho-toetch technology of coding compoent.; 董连和; 关键词：紫外线光谱光刻光源

用于红外焦平面的正方形孔径球面微透镜阵列研究被引量：10: 2012年; 针对目前红外焦平面光敏阵列中存在的占空比小、光能利用率低的实际问题,展开了正方形孔径球面微透镜阵列制作及其与红外焦平面阵列集成应用的研究.本文从红外焦平面光敏阵列特点入手,对比分析了正方形孔径相比于传统圆形孔径微透镜阵列在光能利用上的优势.提出正方形孔径微透镜阵列激光直写变剂量曝光制作技术,建立光刻胶曝光数学模型和正方形球面微透镜面型函数,以此为基础,编制直写设备变剂量曝光控制软件;利用长春理工大的学复合坐标激光直写系统和等离子刻蚀机进行相关工艺实验,制作了阵列256×256、单元尺寸40×40μm2、球面半径60μm、单元间距1μm的红外石英微透镜阵列;并将其与相应阵列的碲-镉-汞红外光敏阵列进行集成.结果表明:微透镜的占空比达到95%,红外焦平面光能利用率从原来的60%提高到90%以上.由此得出结论:变剂量曝光制作微透镜技术是可行的,正方形孔径球面微透镜阵列代替圆形孔径微透镜阵列,对于提高红外探测器的灵敏度、信噪比、分辨率等性能具备明显优势.; 孙艳军冷雁冰陈哲董连和; 关键词：红外焦平面

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