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郑斌

作品数：3 被引量：19H指数：3
供职机构：清华大学理学院化学系更多>>
发文基金：清华大学基础研究基金资助教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 3篇AES
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇石墨
  • 1篇能谱
  • 1篇物种
  • 1篇线形
  • 1篇线形分析
  • 1篇金刚石
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇金属
  • 1篇金属化
  • 1篇俄歇电子
  • 1篇俄歇电子能谱
  • 1篇复合材料
  • 1篇刚石
  • 1篇XPS
  • 1篇钛
  • 1篇表面金属化
  • 1篇复合材

机构

  • 3篇清华大学
  • 1篇北京中材人工...

作者

  • 3篇姚文清
  • 3篇朱永法
  • 3篇曹立礼
  • 3篇郑斌
  • 1篇王鹤泉
  • 1篇叶小燕
  • 1篇胡为民

传媒

  • 1篇分析化学
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇材料工程

年份

  • 1篇2000
  • 1篇1999
  • 1篇1998
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
电子能谱线形分析研究碳物种的化学状态被引量：10
1999年
利用XIS的Cls携上峰,X线激发俄歇线形,XPS价带谱以及俄歇电子能谱的CKLL线形研究了几种碳材料的化学状态和电子结构.研究结果表明:XPS的携上效应可以鉴别不同结构的碳材料.XAES的化学位移和线形也可以有效地研究各种不同的碳材料的成键方式.XPS的价带谱也是研究固体表面电子结构的一种有效方法,对碳材料的研究也很有效.AES的CKLL俄歇线形非常适合金属碳化物的鉴别.
朱永法郑斌姚文清叶小燕曹立礼
关键词：电子能谱线形分析XPSAES
金刚石薄膜的表面金属化及与Ti薄膜的界面扩散反应的AES研究被引量：7
1998年
利用磁控溅射的方法在金刚石薄膜表面沉积了２５０ｎｍ厚的金属Ｔｉ层，通过３００～６００℃的真空热处理，促进了Ｔｉ与金刚石之间的界面扩散反应。利用俄歇电子能谱研究了Ｔｉ／金刚石薄膜界面的结合状态，发现在界面上形成了Ｔｉ的碳化物。并发现Ｔｉ与金刚石薄膜发生了大幅度的界面扩散反应，Ｔｉ元素渗入金刚石层达６００ｎｍ，促进了Ｔｉ与金刚石之间形成良好的化学结合，为获得高性能的金刚石切削工具提供了可能。界面扩散反应动力学的研究表明Ｔｉ／金刚石界面扩散反应的表观活化能为１２．３ｋＪ／ｍｏｌ。过高的热处理温度（高于６００℃）会导致金属Ｔｉ层严重的氧化，不利于界面扩散反应的进行。热处理时间的增加有利于ＴｉＣ的生成。
郑斌朱永法姚文清王鹤泉曹立礼胡为民
关键词：金刚石钛AES金属化
金属/石墨界面扩散反应的AES研究被引量：3
2000年
利用扫描俄歇微探针的深度分析和线形分析 ,研究了石墨与金属Ti,Cr之间的界面状态和相互作用。研究结果表明 ,样品经真空热处理后 ,在Ti/石墨、Cr/石墨薄膜界面上发生了界面扩散和化学反应 ,生成了TiC和Cr3 C2 等金属碳化物物种 ,促使Ti。
姚文清朱永法郑斌曹立礼
关键词：石墨俄歇电子能谱金属复合材料
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