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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇粉体
  • 2篇碳化硅
  • 2篇碳化硅粉
  • 2篇碳化硅粉体
  • 2篇无钯活化
  • 2篇化学镀
  • 2篇活化
  • 2篇活化液
  • 2篇碱溶液
  • 2篇硅粉
  • 1篇镀镍
  • 1篇镀镍液
  • 1篇镀铜
  • 1篇铁盐
  • 1篇稳定剂
  • 1篇化学镀镍
  • 1篇化学镀镍液
  • 1篇化学镀铜
  • 1篇活化工艺
  • 1篇含铁

机构

  • 4篇北方民族大学

作者

  • 4篇邹忠利
  • 4篇杨世明
  • 4篇马宝东
  • 3篇马金福
  • 3篇耿桂宏
  • 1篇陈文豪

传媒

  • 1篇材料保护
  • 1篇广东化工

年份

  • 1篇2017
  • 3篇2015
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
粉体化学镀镍液复合稳定剂的研究
2015年
文章分别考察了硫脲、碘化钾、乙酸铅和硫酸铜等四种稳定剂对粉体化学镀镍液稳定性和沉积速率的影响。实验结果表明:稳定剂的加入都可以改善镀液的稳定性,而对于镀液沉积速率而言,其加入量不是愈大越好,存在一个最佳的浓度范围。试验通过正交试验优选出既能使镀液稳定性良好,又有一定的沉积速率的复合稳定剂组成。试验结果显示,添加了复合稳定剂的化学镀液稳定时间达到3072 s,沉积速率为25.69μm/h。
马宝东邹忠利陈文豪杨世明
关键词:化学镀镍稳定剂粉体沉积速率
SiC粉体化学镀铜前的铁盐活化工艺被引量:1
2015年
为了实现Si C粉体化学镀前的无钯活化,采用铁盐的乙醇溶液对Si C粉体进行活化,通过单因素试验研究了活化液中铁盐含量、硼氢化钠的含量、活化温度和p H值等对Si C粉体表面铜沉积量的影响。采用扫描电镜(SEM)对Si C粉体包覆前后的表观形貌进行了观察,通过X射线衍射仪(XRD)获得了包覆前后Si C粉体的组成,并对活化粉体化学镀铜后镀层的结合力进行测试。结果表明:经过铁盐活化后Si C表面吸附上了铁微粒,化学镀处理后在其表面沉积了一层铜,其结合力符合要求;最佳活化工艺条件为5.0 g/L硝酸铁,3.0 g/L硼氢化钠,p H值12.5,温度20℃。
邹忠利耿桂宏马金福马宝东杨世明
关键词:SIC粉体化学镀铜
一种碳化硅粉体的无钯活化方法
本发明公开了一种碳化硅粉体的无钯活化方法,包括下述步骤:1)碳化硅粉体原料的预处理:利用有机溶剂清洗碳化硅粉体表面的有机附着物,利用无机酸溶液和/或碱溶液清洗碳化硅粉体表面的无机附着物;2)碳化硅粉体的活化:将清洗后的碳...
邹忠利耿桂宏马金福马宝东杨世明
一种碳化硅粉体的无钯活化方法
本发明公开了一种碳化硅粉体的无钯活化方法,包括下述步骤:1)碳化硅粉体原料的预处理:利用有机溶剂清洗碳化硅粉体表面的有机附着物,利用无机酸溶液和/或碱溶液清洗碳化硅粉体表面的无机附着物;2)碳化硅粉体的活化:将清洗后的碳...
邹忠利耿桂宏马金福马宝东杨世明
文献传递
共1页<1>
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