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刘娟娟

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇生长温度
  • 1篇气态源分子束...
  • 1篇温度
  • 1篇锡合金
  • 1篇晶格
  • 1篇晶格常数
  • 1篇硅基
  • 1篇合金
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体材料
  • 1篇
  • 1篇BI
  • 1篇GSMBE
  • 1篇GAAS

机构

  • 2篇中国科学院
  • 2篇查尔姆斯理工...
  • 1篇上海科技大学
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 2篇张振普
  • 2篇刘娟娟
  • 1篇王庶民
  • 1篇宋禹忻
  • 1篇潘文武
  • 1篇崔健
  • 1篇吴晓燕

传媒

  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 2篇2017
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
一种新颖的硅基GeSn悬空微结构
新型IV族半导体材料GeSn合金由于其带隙可连续变化,并可制作为与互补金属氧化物半导体CMOS工艺相匹配的硅基激光器,对其的研究在近几年来日趋火热.GeSn合金能带结构在Sn组分大于~6.5%-11%能够转变为直接带隙....
韩奕李耀耀宋禹忻张振普刘娟娟朱忠赟珅王庶民
关键词:晶格常数
探究GSMBE制备GaAsBi薄膜中生长条件对Bi浓度的影响
2017年
为了探究GaAsBi薄膜生长中生长条件与Bi浓度的关系,我们利用气态源分子束外延(GSMBE)技术,通过改变每个GaAsBi单层的生长温度、AsH_3压和Bi源温度,在半绝缘GaAs(100)衬底上生长GaAsBi的多层结构。通过二次离子质谱(SIMS)及透射电镜X光谱(EDX)测试得出:GaAsBi中Bi的浓度随着生长温度的升高而降低,且生长速率越慢表面偏析和再蒸发严重,可导致Bi浓度下降趋势更明显;Bi浓度随着AsH_3压的升高而减小,在As_2和Ga束流比在0.5~0.8之间几乎成线性变化,远不如固态源MBE敏感;此外,Bi源温度升高,Bi掺入的浓度也会增大,但是当生长温度大于420℃时,Bi就很难凝入。
崔健潘文武吴晓燕陈其苗刘娟娟张振普王庶民
关键词:气态源分子束外延生长温度
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