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高雪伟

作品数：8 被引量：0H指数：0
供职机构：京东方科技集团股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 8篇中文专利

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 4篇掩膜
  • 4篇镂空
  • 4篇溅射
  • 2篇镀膜技术
  • 2篇掩膜板
  • 2篇真空镀膜
  • 2篇湿法刻蚀
  • 2篇使用寿命
  • 2篇凸起
  • 2篇喷雾
  • 2篇气液
  • 2篇组件
  • 2篇膜层
  • 2篇均匀性
  • 2篇刻蚀
  • 2篇刻蚀设备
  • 2篇刻蚀液
  • 2篇溅射设备
  • 2篇轰击
  • 2篇粉尘

机构

  • 8篇京东方科技集...

作者

  • 8篇高雪伟
  • 6篇肖磊
  • 4篇陈一民
  • 2篇杜建华
  • 2篇冯惠谦

年份

  • 3篇2019
  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 2篇2016
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
一种气液喷雾刻蚀设备及方法
本发明提供一种气液喷雾刻蚀设备及方法。所述设备包括刻蚀腔室、气体提供装置、刻蚀液提供装置、气液混合装置、气液喷射装置；气液混合装置用于将刻蚀液提供装置提供的刻蚀液和气体提供装置提供的载气混合，形成气液混合物，其中，刻蚀液...
高雪伟冯惠谦
掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法
本申请公开了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法，属于镀膜技术领域。所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，掩膜本体具有镂空区域，遮挡部设置在掩膜本体上，且位于镂空区域的边缘，遮挡部能够与掩膜本体发生相对位移，以改变镂空区...
田忠朋陈一民肖磊武捷高雪伟
一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置
本发明实施例提供一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置，涉及溅射镀膜技术领域，在溅射镀膜过程中，可减少粉尘飘落到待镀膜基板上。该掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有镂空区域，所述掩膜板本体的溅射面上设置有多个微凸起。...
田忠朋陈一民高雪伟武捷肖磊
文献传递
一种气液喷雾刻蚀设备及方法
本发明提供一种气液喷雾刻蚀设备及方法。所述设备包括刻蚀腔室、气体提供装置、刻蚀液提供装置、气液混合装置、气液喷射装置；气液混合装置用于将刻蚀液提供装置提供的刻蚀液和气体提供装置提供的载气混合，形成气液混合物，其中，刻蚀液...
高雪伟冯惠谦
文献传递
掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法
本申请公开了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法，属于镀膜技术领域。所述掩膜组件包括：掩膜本体和遮挡部，掩膜本体具有镂空区域，遮挡部设置在掩膜本体上，且位于镂空区域的边缘，遮挡部能够与掩膜本体发生相对位移，以改变镂空区...
田忠朋陈一民肖磊武捷高雪伟
文献传递
磁控溅射装置、磁控溅射设备及磁控溅射的方法
一种磁控溅射装置、磁控溅射设备及磁控溅射的方法，该磁控溅射装置包括：靶材承载部，配置为在其上承载靶材；磁体承载部，配置为在其上承载磁体并可驱动所述磁体相对于所述靶材承载部沿预定路径做往复运动；限位传感器，配置为确定所述磁...
田忠朋高雪伟肖磊杜建华
文献传递
一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置
本发明实施例提供一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置，涉及溅射镀膜技术领域，在溅射镀膜过程中，可减少粉尘飘落到待镀膜基板上。该掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有镂空区域，所述掩膜板本体的溅射面上设置有多个微凸起。...
田忠朋陈一民高雪伟武捷肖磊
磁控溅射装置、磁控溅射设备及磁控溅射的方法
一种磁控溅射装置、磁控溅射设备及磁控溅射的方法，该磁控溅射装置包括：靶材承载部，配置为在其上承载靶材；磁体承载部，配置为在其上承载磁体并可驱动所述磁体相对于所述靶材承载部沿预定路径做往复运动；限位传感器，配置为确定所述磁...
田忠朋高雪伟肖磊杜建华
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