王威
- 作品数：3 被引量：34H指数：2
- 供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>
- 发文基金：北京市科委科技计划项目更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 一种TFT-LCD Vertical Block Mura的研究与改善被引量：26
- 2007年
- 在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)以及其他显示器件产品中,Mura是一种比较常见的不良现象,它可以直接影响到产品的画面品质。文章结合生产工艺的实际情况,采用MM,CD,EPM,SEM,FIB等检测设备,对一种Vertical Block Mura进行了大量的实验测试、数据分析和理论研究工作,特别是对其产生的原因创新性地提出了两种方向上的理论观点。通过加强设备科学管理监控,减小耦合电容效应等一系列改善措施,产品质量得到了很大程度的提升,Vertical Block Mura从改善前的26.1%降到了1.3%,从而使Vertical Block Mura得以改善,很大程度地提高了产品的品质,并为今后相关问题的进一步研究和解决奠定了一定的理论基础。
- 吴洪江王威龙春平
- 关键词：TFT-LCD抖动耦合电容画面品质
- TFT-LCD取向层表面的针孔缺陷分析(英文)
- 2011年
- 在TFT-LCD的生产过程中,取向层表面针孔缺陷是造成产品不良的常见原因。应用聚焦离子束(FIB)、扫描电子显微镜(SEM)和光学测量系统(OMS)工具,并结合数据统计软件Business Objects(BO)对实际生产过程中的一种典型产品不良——黑点,进行了测试和分析。结果表明,取向层表面针孔缺陷是产生黑点不良的根本原因。在此基础上,进一步通过理论分析和实验研究证明,成膜过程中膜液的流体力学不稳定性是导致取向层表面针孔缺陷的重要原因,而固化时间则是影响流体力学不稳定性的重要参数。膜液流体力学不稳定性的充分发展并最终对膜结构产生影响需要一定时间,当固化时间接近甚至小于不稳定性充分发展的时间时,取向层表面产生针孔缺陷的机会将大大减小甚至消除。
- 黄东升赵凯夏子祺王威张志男
- 关键词：TFT-LCD针孔预烘
- 使用低电阻金属铝制造薄膜晶体管阵列信号电极被引量：8
- 2009年
- 金属电阻是影响大尺寸TFT-LCD信号延迟的关键因素。研究了利用低电阻率金属Al制作大尺寸TFT阵列信号线的生产工艺,发现在完成有源半导体层刻蚀后残留的少量Cl2会在后续工艺中对金属Al造成腐蚀,严重地影响了产品的性能。通过优化刻蚀工艺,采用活性更高的SF6去除刻蚀有源半导体层时残留的少量Cl2,避免了金属Al腐蚀的发生。
- 刘翔陈旭谢振宇高浩然王威
- 关键词：薄膜晶体管铝刻蚀
