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严晓林

作品数：1 被引量：9H指数：1
供职机构：上海大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金：上海市教育委员会重点学科基金上海市博士后科研资助计划资助长江学者和创新团队发展计划更多>>
相关领域：核科学技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇核科学技术

主题

  • 1篇抛光
  • 1篇碲锌镉
  • 1篇机械抛光
  • 1篇机械研磨
  • 1篇粗糙度

机构

  • 1篇上海大学

作者

  • 1篇张继军
  • 1篇夏义本
  • 1篇王林军
  • 1篇梁小燕
  • 1篇闵嘉华
  • 1篇陈军
  • 1篇彭兰
  • 1篇严晓林

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
碲锌镉晶片机械研磨和机械抛光工艺研究被引量：9
2011年
研究了碲锌镉(CZT)晶片表面的机械研磨和机械抛光工艺。采用不同粒度的Al2O3磨料对CZT晶体表面进行机械研磨和机械抛光,并研究了工艺参数变化对CZT晶体表面质量、粗糙度、研磨速度和抛光速度的影响。结果表明,机械研磨采用粒度2.5μm的Al2O3磨料,最佳的研磨压力和研磨盘转速分别为120g/cm2和75r/min,研磨速度为1μm/min;机械抛光采用粒度0.5μm的Al2O3抛光液,最佳的抛光液浓度为6.5%(质量分数),抛光速度为0.28μm/min。AFM测试得到机械研磨后晶片表面粗糙度Ra值为13.83nm,机械抛光4h后,Ra降低到4.22nm。
彭兰王林军闵嘉华张继军陈军梁小燕严晓林夏义本
关键词：碲锌镉机械研磨机械抛光粗糙度
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共1页<1>
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