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赵晓云
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
供职机构:
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
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相关领域:
理学
电子电信
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合作作者
杨扬
西安电子科技大学微电子学院宽禁...
贾文博
西安电子科技大学微电子学院宽禁...
周小伟
西安电子科技大学微电子学院宽禁...
李培咸
西安电子科技大学微电子学院宽禁...
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赵晓云
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2013
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Mg注入非极性a面GaN退火温度的研究
被引量:1
2013年
非极性GaN材料解决了传统GaN材料中的极化现象,具有较好的应用前景。用金属有机物化学气相沉积方法,在r面蓝宝石上生长了Mg注入非极性a面GaN薄膜,并选取650℃、750℃、850℃这3个温度对Mg注入GaN薄膜进行退火温度研究。用原子力显微镜、光致发光谱、拉曼谱研究了材料的表面形貌、光学性质以及面内应力。结果表明,在750℃退火时效果较好。
杨扬
李培咸
周小伟
贾文博
赵晓云
关键词:
非极性
氮化镓
原子力显微镜
光致发光谱
拉曼谱
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