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王瑞曾

作品数：6 被引量：14H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术金属学及工艺更多>>

合作作者

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中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题：碳化硅 外延层 芯片 金属 刻蚀
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
南京电子器件研究所
研究主题：砷化镓 GAAS GAN 功率放大器 MMIC
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
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