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朱磊

作品数：1 被引量：4H指数：1
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陈阳
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：离子注入 典型应用 氧化镓 CMP 硅溶胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高飞
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 晶片 氧化镓 粘接 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
练小正
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：单晶 氧化镓 坩埚 单晶生长 籽晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晖
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 晶片 化学机械抛光 粘接 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐世海
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光 化学机械抛光 晶体 氧化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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