陈阳
- 作品数：6 被引量：14H指数：2
- 供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
- 相关领域：电子电信理学一般工业技术航空宇航科学技术更多>>
- 前进中的曝光技术
- 2004年
- 简述了曝光的历史和发展趋势及当前的技术状态和技术难点,指出了将来的发展思路。
- 陈江红陈阳
- 关键词：电子束超大规模集成电路
- 基于业务的网络可靠性试验流量生成方法研究
- 2014年
- 网络的发展从仅关注速度的提升转移到关注业务的交付能力,由此网络可靠性问题越来越受到研究者的重视。网络可靠性试验是评价网络可靠性的一种重要手段,而试验流量的生成对可靠性评价结果具有决定性的影响。然而目前从可靠性角度对网络进行试验时,对任务的描述较为简单,无法支撑由客户需求分解到网络流量生成的全过程;从流量模型角度出发的生成技术则仅关注全网流量,难以支持可靠性试验中的流量生成。本文提出基于业务的混合模型的流量描述方法,并使用软件实现,最后进行试验验证所提出方法的有效性。
- 陈阳
- 关键词：混合模型
- 航空装备典型软件可靠性与性能一体化设计流程与验证
- 2019年
- 航空装备软件系统可靠性工作未形成长效机制,影响任务成功。本文将软件可靠性流程进行固化与优化,实现软件可靠性工作与其整个寿命周期的融合,同时提升监控能力,并将流程应用于典型软件产品进行验证。
- 陈阳刘俊荣
- 关键词：监控点
- 基于任务成功率的装备综合保障工作体系及协同设计环境研究被引量：2
- 2014年
- 本文介绍了基于任务成功率的装备综合保障工作体系框架,提出了可靠性、维修性、测试性、保障性、安全性协同设计环境要求,从而为进行可靠性、维修性、测试性、保障性、安全性综合优化设计奠定基础。
- 孟庆海陈阳
- 关键词：协同设计环境
- β-Ga_2O_3(100)面的CMP研究及优化被引量：4
- 2017年
- 主要研究了Czochralski法生长的β-Ga_2O_3单晶片的化学机械抛光(CMP)。采用酸性硅溶胶溶液作为抛光液,对经过切割、机械抛光后的10 mm×10 mmβ-Ga_2O_3单晶片进行了CMP实验。通过金相显微镜观察到4 h的抛光过程中,单晶片表面逐渐平坦化,经原子力显微镜(AFM)测试,单晶片的表面粗糙度达到了0.174 nm。在采用AxDyOz和LClk的混合酸性溶液对β-Ga_2O_3单晶片进行抛光后,获得了更好的晶片表面状态和去除速率。通过实验得出,在采用酸性硅溶胶溶液对β-Ga_2O_3单晶片进行CMP时,单晶片表面被酸性溶液腐蚀,然后通过SiO_2粒子的磨削作用使表面达到平坦化。而优化实验中,采用AxDyOz和LClk混合酸性溶液中原位产生的DlOm粒子作为磨粒,抛光效果更佳。
- 徐世海李晖高飞练小正朱磊陈阳
- 关键词：氧化镓抛光液平坦化硅溶胶
- 离子注入技术的发展及其应用被引量：8
- 2004年
- 简述了离子注入技术的发展趋势及典型应用,并简要分析了该领域的技术发展方向。
- 陈江红陈阳李爱成
- 关键词：离子注入典型应用
