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文献类型

  • 8篇中文专利

主题

  • 4篇瓶体
  • 3篇室温条件
  • 3篇进气
  • 2篇液位
  • 2篇液位传感器
  • 2篇天平
  • 2篇内压
  • 2篇内压力
  • 2篇气量
  • 2篇空心管
  • 2篇鼓泡
  • 2篇感器
  • 2篇传感
  • 2篇传感器
  • 1篇等径
  • 1篇度分布
  • 1篇载气
  • 1篇气相沉积
  • 1篇热元件
  • 1篇离线

机构

  • 8篇北京七星华创...

作者

  • 8篇任鑫
  • 8篇兰云峰
  • 6篇苏艳波
  • 1篇刘东
  • 1篇陈添明

年份

  • 2篇2016
  • 6篇2014
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
一种应用于原子层沉积设备的源瓶
本发明公开了一种应用于原子层沉积设备的源瓶,在插入至瓶体近底部的进气管底端,连通若干支水平设置的带有若干气孔的鼓泡管,各鼓泡管为末端封闭的等长、等径空心管,并以进气管底端为中心等角度分布,气孔孔间距与孔径具有一定对应关系...
苏艳波兰云峰任鑫
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外延设备
1.本外观设计产品的名称:外延设备。;2.本外观设计产品的用途:外延生长设备,用于淀积单晶硅衬底上的外延层。;3.本外观设计的设计要点:在于产品的整体形状及用管道连接的两机箱分体结构。;4.本外观设计为大型设备,底面不常...
陈添明兰云峰任鑫
一种应用于原子层沉积设备的源瓶
本发明公开了一种应用于原子层沉积设备的源瓶,在插入至瓶体近底部的进气管底端,连通若干支水平设置的带有若干气孔的鼓泡管,各鼓泡管为末端封闭的等长、等径空心管,并以进气管底端为中心等角度分布,气孔孔间距与孔径具有一定对应关系...
苏艳波兰云峰任鑫
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一种进气分配装置
本实用新型涉及半导体工艺设备技术领域,尤其涉及一种进气分配装置。该进气分配装置包括具有导热功能的集成块和用于为集成块加热的加热元件,集成块内设有多个流道,加热元件设置于集成块中,流道与气源端连接,且还与腔室连接。本实用新...
兰云峰任鑫刘东
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一种用于反应源瓶的试验装置及试验方法
本发明公开了一种用于反应源瓶的试验装置及试验方法,包括源瓶瓶体,安装在瓶体的瓶盖上的进气管、出气管、热偶,其特征在于,还包括一个天平,所述瓶体放置在天平上;所述进气管一端伸入到瓶体中,另一端连接供气装置;所述出气管一端连...
苏艳波兰云峰任鑫
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可调角度的焊机辅助设备
本实用新型提供一种可调角度的焊机辅助设备,包括:可在滑轨上移动的基座,所述基座上设有可上下运动的滑动固定块,所述滑动固定块上设有用于夹持第一钢管的固定块夹持压板以及用于夹持第二钢管的调节块夹持压板;所述滑动固定块上还设有...
兰云峰任鑫苏艳波
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一种用于反应源瓶的试验方法
本发明公开了一种用于反应源瓶的试验方法,通过使用一种模拟反应工艺实际过程,具有秤重结构的反应源瓶试验装置,实现对液源的质量变化值、源瓶内的压力、载气流量、试验时间、试验温度等所需关键技术参数进行离线精确采集,通过试验计算...
苏艳波兰云峰任鑫
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一种用于反应源瓶的试验装置
本实用新型公开了一种用于反应源瓶的试验装置,包括源瓶瓶体,安装在瓶体的瓶盖上的进气管、出气管、热偶,其特征在于,还包括一个天平,所述瓶体放置在天平上;所述进气管一端伸入到瓶体中,另一端连接供气装置;所述出气管一端连通瓶体...
苏艳波兰云峰任鑫
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共1页<1>
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