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文献类型

  • 3篇中文专利

主题

  • 1篇导流管
  • 1篇电路
  • 1篇液体表面张力
  • 1篇支撑柱
  • 1篇漂洗
  • 1篇气场
  • 1篇轴向
  • 1篇装载
  • 1篇子层
  • 1篇涡流
  • 1篇集成电路
  • 1篇硅片
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体集成
  • 1篇半导体集成电...
  • 1篇衬底

机构

  • 3篇北京七星华创...

作者

  • 3篇陈添明
  • 1篇刘东
  • 1篇彭文芳
  • 1篇潘龙
  • 1篇任鑫
  • 1篇李春雷
  • 1篇兰云峰

年份

  • 3篇2014
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
一种衬底单面漂洗装置
本实用新型涉及半导体集成电路制造领域,公开了一种衬底单面漂洗装置。该装载固定工具包括:第一漂洗槽、第二漂洗槽、第三漂洗槽、晾干槽和支架;所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的顶部开口处可拆卸地安装有...
陈添明刘东李春雷
文献传递
外延设备
1.本外观设计产品的名称:外延设备。;2.本外观设计产品的用途:外延生长设备,用于淀积单晶硅衬底上的外延层。;3.本外观设计的设计要点:在于产品的整体形状及用管道连接的两机箱分体结构。;4.本外观设计为大型设备,底面不常...
陈添明兰云峰任鑫
一种原子层薄膜沉积进气装置
本实用新型涉及原子层薄膜沉积技术领域,公开了一种原子层薄膜沉积进气装置。该原子层薄膜沉积进气装置包括:接头、接管和第一导流管;所述接管分别与所述第一接头和所述第一导流管连通,所述第一导流管两端分别安装有第一堵盖和第二堵盖...
潘龙陈添明彭文芳
文献传递
共1页<1>
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