张勃
- 作品数：3 被引量：2H指数：1
- 供职机构：沈阳理工大学理学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金辽宁省高等学校优秀人才支持计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 基于无催化剂化学气相沉积法的氮化镓纳米线制备和表征被引量：2
- 2015年
- 采用化学气相沉积法,通过金属镓和氨气的直接反应,在石英衬底上沉积出GaN纳米线。利用XRD和SEM对制备的GaN纳米线进行了结构和形貌的表征。结果表明合成的GaN纳米线为六方纤锌矿结构,直径为100~200 nm,长度达几微米,GaN纳米线的生长符合VLS生长模型。室温PL光谱表明GaN纳米线在395 nm和566 nm的发光峰主要与Ga空位或者N空位引起的缺陷能级相关。
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- 关键词：石英GAN纳米线
- 磁控溅射制备五氧化二钒薄膜及其透射率研究
- 2016年
- 采用直流磁控溅射方法在普通玻璃衬底上制备五氧化二钒薄膜。研究氧氩比、溅射功率、衬底温度和溅射时间对氧化钒薄膜结构的影响。XRD测试结果表明,实验均制得了纯相的五氧化二钒,没有出现其他的钒氧化物相。对制备的薄膜进行了透射率测试,并对结果做了分析。结果显示,在室温下,溅射功率为250W,溅射时间为10min,氧氩比为1∶100的条件下,薄膜的结晶度最好且具有较高的透射率。
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- 关键词：直流磁控溅射XRD透射率
- 锌掺杂包覆状氮化镓纳米线的制备及表征
- 2016年
- 采用化学气相沉积法在石英衬底上沉积出锌掺杂的GaN纳米线。利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDS）和拉曼光谱（Raman）对锌掺杂GaN纳米线进行了结构和形貌的表征。结果表明：锌掺杂后GaN纳米线的XRD图谱向低角度方向移动,衍射峰更加明显。锌掺杂Ga N纳米线存在一层包覆结构,纳米线的直径范围约为300~500 nm,包覆层的厚度在150~200 nm。锌掺杂GaN纳米线的Raman光谱在E2（high）和A1（LO）出现了微小的红移。最后对包覆结构的可能形成机理进行了探讨。
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- 关键词：化学气相沉积GAN纳米线
