谌加军
- 作品数：4 被引量：58H指数：3
- 供职机构：西华师范大学物理与电子信息学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划四川省教育厅资助科研项目更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺更多>>
- 溅射功率对Mo薄膜微结构和性能的影响被引量：10
- 2011年
- 实验采用直流磁控溅射沉积技术在不同溅射功率下制备Mo膜,研究了不同溅射功率下Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其晶粒尺寸和应力进行了研究。利用原子力显微镜观察样品的表面形貌发现随着溅射功率的增加,薄膜表面粗糙度逐渐增大。X射线衍射分析表明薄膜呈立方多晶结构,晶粒尺寸为14.1～17.9nm;应力先随溅射功率的增大而增大,在40W时达到最大值(2.383GPa),后随溅射功率的增大有所减小。
- 廖国何智兵陈太红许华李俊谌加军唐永建
- 关键词：直流磁控溅射MO薄膜溅射功率表面形貌X射线衍射
- 电解抛光技术研究进展被引量：45
- 2007年
- 介绍了电解抛光技术的研究现状﹑特点及抛光原理,分析了工件表面粗糙度的主要影响因素。指出了电解抛光技术存在的问题。
- 张素银杜凯谌加军詹勇军曾体贤
- 关键词：电解抛光粗糙度影响因素
- 溅射功率对磁控溅射制备Bi薄膜结构和性能的影响被引量：4
- 2012年
- 采用直流磁控溅射方法在不同功率下制备了铋(Bi)薄膜,对薄膜的沉积速率、表面形貌、生长模式、晶体结构进行了研究,并对其晶粒尺寸和应力的变化规律进行了分析。扫描电镜(SEM)图像显示:薄膜均为柱状生长,平均晶粒尺寸随溅射功率先增大后减小,薄膜的致密度随着功率的增加而降低,在60W时又变得较致密。X射线衍射(XRD)结果表明:Bi薄膜均为多晶斜六方结构,薄膜内应力随功率的增加由张应力变为压应力。
- 廖国何智兵陈太红许华李俊谌加军
- 关键词：直流磁控溅射溅射功率
- 工作气压对Bi薄膜沉积速率和表面形貌的影响
- 2011年
- 采用直流磁控溅射方法在不同工作气压下制备了Bi薄膜,对薄膜的晶体结构、沉积速率、表面形貌和生长模式进行了研究,并对其晶粒尺寸的变化规律进行了分析。X射线衍射(XRD)结果表明Bi薄膜均为多晶斜六方结构。研究发现沉积速率随工作气压的升高先增大后减小。扫描电镜(SEM)图像显示随着工作气压的升高,小晶粒尺寸增大、大尺寸晶粒逐渐消失,薄膜变得疏松多孔;薄膜经历柱状-节榴状-楔形3种生长方式。
- 廖国何智兵杨晓峰陈太红许华李俊谌加军
- 关键词：直流磁控溅射工作气压沉积速率表面形貌
